プロピレングリコールメチルエーテルの英語

特に、本発明の好ましいレジストは、化学増幅型ポジ型レジストであり、酸反応成分に加えて乳酸エチル又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテートをはじめとするエステル系溶剤を含有する。例文帳に追加

Particularly, a preferable photoresist of the invention is a chemically amplified positive resist and contains an ester-based solvent such as ethyl lactate or propylene glycol methyl ether acetate in addition to the acid reaction component. - 特許庁

本発明によるフォトレジスト組成物は、ａ）ノボラック樹脂、ｂ）ジアジド系化合物、及びｃ）プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及びトリメチルペンタンジオールモノイソブチレートを含有する溶媒を含む。例文帳に追加

The photoresist composition comprises (a) a novolak resin, (b) a diazide compound and (c) a solvent containing propylene glycol methyl ether acetate and trimethylpentanediolmonoisobutylate. - 特許庁

着色剤、樹脂、重合性化合物、重合開始剤及び溶剤を含み、着色剤が、キサンテン染料と顔料とを含む着色剤であり、溶剤が、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを含む溶剤である着色感光性樹脂組成物。例文帳に追加

A colored photosensitive resin composition includes a colorant, a resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator and a solvent, in which the colorant is a colorant including a xanthene dye and a pigment and the solvent is a solvent including dipropylene glycol methyl ether acetate. - 特許庁

樹脂成分（ポリスチレン）において、低分子成分の樹脂及び添加剤だけを溶剤（ジプロピレングリコールメチルエーテル）に溶解させて、高分子成分の樹脂は溶解させない溶剤を使用することによって、高純度の樹脂材料に再生することが可能となる方法を提案する。例文帳に追加

The high-purity resin material can be reclaimed by using a solvent (dipropylene glycol methyl ether) which dissolves only a resin being a low-molecular-weight component and an additive but not a solvent which does not dissolve a resin being a macromolecular component, in a resin component (polystyrene). - 特許庁

着色層形成用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光重合開始剤および（Ｅ）溶媒を含有し、（Ｅ）溶媒がジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを３〜８．５重量％含有することを特徴とする。例文帳に追加

The radiation-sensitive composition for forming a colored layer comprises (A) a coloring agent, (B) an alkali soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent which comprises 3-8.5% by weight of dipropylene glycol methyl ether acetate. - 特許庁

１，３−プロパンジオールアルキルエーテル、１，３−プロパンジオールアルキルエーテルアセテート、１，３−プロパンジオールジアルキルエーテル、１，３−プロパンジオールジアセテートの群から選ばれる１種以上の溶媒を使用すること、更には炭素数１〜４のアルコールや、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートを併用することを特徴とするリソグラフィー用洗浄剤。例文帳に追加

The cleaner for lithography uses one or more solvents selected from the group comprising 1,3-propanediol alkyl ethers, 1,3-propanediol alkyl ether acetates, 1,3-propanediol dialkyl ethers and 1,3-propanediol diacetate optionally in combination with a 1-4C alcohol or propylene glycol methyl ether acetate. - 特許庁

ｉ）光活性成分，ｉｉ）１個又はそれ以上のＳｉ成分を含有して成る成分，及びｉｉｉ）１個又はそれ以上のスルホン酸部分を含有して成る成分を含み，主又は全溶媒としてプロピレングリコールメチルエーテルアセテートのような非−ヒドロキシル溶媒を含んでなるフォトレジスト組成物。例文帳に追加

The photoresist composition contains (i) a photoactive component, (ii) a component containing one or more Si components, and (iii) a component containing one or more sulfonic acid moieties, and contains a non-hydroxyl solvent such as propylene glycol methyl ether acetate as a main or total solvent. - 特許庁