リフロースパッタの英語

リフロースパッタリング方法及びリフロースパッタリング装置例文帳に追加

REFLOW SPUTTERING METHOD AND REFLOW SPUTTERING SYSTEM - 特許庁

より低い温度で基板を加熱した場合でも金属材料を十分にホールに埋め込むことができる高温リフロースパッタリングの技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique for high-temperature reflow sputtering capable of thoroughly embedding metal material in a hole even when the substrate is heated at a lower temperature. - 特許庁

より低い温度で基板を加熱した場合でも金属材料を十分にホールに埋め込むことができる高温リフロースパッタリングの技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique for high temperature reflow sputtering technique capable of sufficiently filling a metallic material into a hole even in the case a substrate is heated at a lower temperature. - 特許庁

ロングスロースパッタやリフロースパッタ等の新スパッタ方式でスパッタリングした際に発生する新たな不良モード（巨大ダストや大きな凹部）の発生を抑制することを可能にしたスパッタリングターゲット用インゴットの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing an ingot for a sputtering target, which inhibits the production of a new defective mode (huge dust and large cavity) occurring when a target is sputtered in a new sputtering system such as long slow sputtering and reflow sputtering. - 特許庁

ロングスロースパッタやリフロースパッタ等の新スパッタ方式でスパッタリングした際に発生する新たな不良モード（巨大ダストや大きな凹部）の発生を抑制することを可能にしたスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a sputtering target that suppresses occurrence of new defect modes (giant dust particles or large concavities) when the new sputtering methods such as long throw sputtering or reflow sputtering are employed. - 特許庁