一括溶解法の英語

大量のTiスクラップを一括して効率的に溶解する方法の提供を第1の課題とし、また上記介在物の問題のないTiスクラップの溶解方法の提供を第2の課題とする。例文帳に追加

To firstly provide a method for simultaneously and efficiently melting a large amount of Ti scrap and to secondly provide the method for melting the Ti scrap which is free of inclusions. - 特許庁

フェノール類、パラホルムアルデヒドおよびアミン類を有機溶剤中で反応させる工程を有するベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂の製造方法において、前記有機溶剤が非プロトン性溶剤であり（ただし、ジオキサンを除く）、かつ前記フェノール類およびアミン類を前記非プロトン性溶剤に溶解した後、前記反応に必要なパラホルムアルデヒドの全量を一括して反応系に添加することを特徴とするベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂の製造方法。例文帳に追加

The method for producing a heat-curing resin having a benzoxazine ring comprises a process for reacting a phenol, paraformaldehyde and an amine in an organic solvent, wherein the organic solvent is an aprotic solvent (excluding dioxane); and the phenol and the amine are dissolved in the aprotic solvent followed by adding a lump of the total paraformaldehyde necessary for the reacting into the reacting system. - 特許庁

液浸リソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかも滑水性に優れ、レジスト膜とミキシングしないものであり、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる保護膜の提供。例文帳に追加

To provide a resist protective film formed on a resist film in a pattern forming method by liquid immersion lithography, which is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution (alkali developer), excels in water-sliding property, does not mix with the resist film, allows good liquid immersion lithography, and also allows simultaneous development of the resist film and removal of the protective film during alkali development. - 特許庁