堆積シーケンスの英語

ＣＶＤエッチングおよび堆積シーケンスにより形成されるＣＭＯＳトランジスタ接合領域例文帳に追加

CMOS TRANSISTOR JUNCTION REGIONS FORMED BY CVD ETCHING AND DEPOSITION SEQUENCE - 特許庁

方法は、アセチレンの流れをやめること、カーボンブラック堆積シーケンスの後にカーボンブラックを堆積された基板から離れてヘッド組立体を割り出すこと、第２のインジェクタを通して燃料ガスおよび酸化剤ガス流をやめることを含む。例文帳に追加

The method includes ceasing the flow of acetylene, indexing the head assembly away from the substrate on which was just deposited the carbon black after a carbon black deposition sequence, and ceasing fuel gas and oxidant gas flows through the second injector. - 特許庁

画像形成装置のスタートシーケンスにおいて、クリーニングブレードエッジ部のトナーが堆積する現像剤保持部材の表面部分を、回転によりクリーニングローラとのニップ部に移動させ、クリーニングローラを回転させて固着トナーを除くよう制御する。例文帳に追加

A surface part of the developer holding member to which the toner on an edge section of the cleaning blade is deposited is moved to a nip section with the cleaning roller by rotation and control is carried out to remove the stuck toner by rotating the cleaning roller in a starting sequence of the image forming apparatus. - 特許庁