実効誘電率法の英語

誘電体基板１の内寸法を変更することにより実効誘電率が変化するから、これにより共振周波数を調整する。例文帳に追加

Inside dimensions of the dielectric substrate 1 are changed to change the effective dielectric constant, thereby adjusting the resonance frequency. - 特許庁

第１の方法は、（１）基板上のトレンチを含む誘電体層を形成するステップと、（２）誘電体の実効誘電率を減少させるために、トレンチの側壁および底部のうちの少なくとも一方に沿って、誘電体層内に複数の空隙を形成することにより、誘電体層内にクラッディング領域を形成するステップとを含む。例文帳に追加

The first method includes the steps of: (1) forming a dielectric layer including a trench on a substrate; and (2) forming a cladding region in the dielectric layer by forming a plurality of air gaps in the dielectric layer along at least one of a sidewall and a bottom of the trench so as to reduce an effective dielectric constant of the dielectric. - 特許庁

本発明は、ＤＤ配線プロセスを用いて実効誘電率の低い多層配線を形成する半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of the semiconductor device, which forms a multi-layered wire with a small effective permittivity by using a DD wiring process. - 特許庁

銅配線の下方に位置する下部配線がレイアウト上の制約を受けず、しかも、実効誘電率のばらつきが低減される半導体装置の製造方法と半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device manufacturing method which places no restraints on layout of a lower interconnection located below copper wiring and can reduce the variation in effective dielectric constant, and to provide the semiconductor device. - 特許庁

配線間絶縁膜からビア間絶縁膜への水分の移動を抑制し、配線間の実効誘電率に与える影響の少ない絶縁膜を有する半導体装置、およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device with an insulating film for suppressing the movement of moisture from an inter-wiring insulating film to an inter-via insulating film and reducing influence on an inter-wiring effective dielectric constant, and its manufacturing method. - 特許庁

セルフアラインデュアルダマシン法では、配線層間と配線間の各絶縁膜に有機材料を用い、配線間の絶縁膜をエッチング加工する際に、これらの絶縁膜の層間の全面に有機材料よりも誘電率の高いエッチングストッパ層を用いるため、実効的な誘電率の低減が十分にできないという問題の解決を図る。例文帳に追加

To enable semiconductor device to be lessened in inter-wiring and inter-wiring layer effective dielectric constant and inter-wiring and inter-wiring layer capacitance. - 特許庁

半導体装置を構成する層間絶縁膜として利用する際、その下面、上面と接する他の半導体材料との界面においては、高い密着性を有し、また、膜全体の実効的な比誘電率の更なる低減が可能な有機高分子膜の作製方法を提供。例文帳に追加

To provide a method for preparing an organic polymer film, having high adhesiveness on the interface with other semiconductor material which comes into contact with the lower surface or higher surface of the film when utilized as an interlaminar insulating film constituting a semiconductor device and enabling further reduction of effective permittivity of the whole film. - 特許庁