平均自由路の英語

除算回路を用いることなく、より自由度の高い平均化画素数の設定を可能とする。例文帳に追加

To set the averaged number of pixels with a high degree of freedom without using a division circuit. - 特許庁

この電子シャッター垂直シフトレジスタ回路Ａ２０，Ｂ２１に入力するクロック信号の数およびタイミングを制御することにより、２個の電子シャッター垂直シフトレジスタ回路Ａ２０，Ｂ２１を用意するのみで、“間引き”時の縮小率、“画素平均”時の平均画素数、および、“切り出し”時の切り出しの範囲を自由に変更できる。例文帳に追加

By controlling the number and the timing of clock signals to be input to the electronic shutter vertical shift register circuits A20, B21, a reduction ratio in "thinning", the average number of pixels in "pixel averaging" and a range of segmentation in "segmentation" are freely changed only by preparing the two electronic shutter vertical shift register circuits A20, B21. - 特許庁

このようなプロセス条件下では、従来の成膜条件に比較して触媒体３と基板１０との距離が大きく、成膜圧力が低圧化されるため、反応ガスの平均自由行路が増加され、反応ガスの気相反応が抑制され、カバレッジのよい絶縁膜を形成できる。例文帳に追加

Under these processing conditions, the distance between the catalytic substance 3 and the substrate 10 is larger and a film-forming pressure is lower than the conventional film- forming conditions, increasing a mean free path of a reaction gas while suppressing the gas phase reaction thereof, resulting in the formation of an insulation film having prosper coverage. - 特許庁

インドは、1991 年の経済改革以降、それまでの閉鎖的かつ計画的な経済政策から自由化路線へ政策の転換を進め、年平均6.0%の安定した経済成長を遂げるなど、世界経済におけるその存在感を徐々に増大させている。例文帳に追加

Since initiating its economic reform in 1991, India has continued its transition from a closed and planned economic policy toward a path of liberalization. As a result India has achieved stable economic growth averaging 6.0% annually, gradually enlarging its presence in the world economy. - 経済産業省

制御装置４２は、圧力センサ４４の検出信号から処理室１２の内部が減圧され、放電ユニット２０から送られてくる活性種を含む処理ガスの平均自由行路が、ガス導入口２２から半導体基板１までの距離より大きくなると、開閉弁３８を開放して処理ガスを処理室１２に供給する。例文帳に追加

A control apparatus 42 opens a switching valve 38 and supplies the processing gas to the processing chamber 12, when the inside of the processing chamber 12 is evacuated with a detection signal of a pressure sensor 44, and the average free path of the processing gas including active seeds sent from the discharge unit 20 becomes longer than the distance from the gas inlet port 22 up to the semiconductor substrate 1. - 特許庁