放電反応器の英語

電極切断後の放電特性の低下を抑制することが可能な放電反応器を提供する。例文帳に追加

To provide a discharge reactor wherein the deterioration of discharge properties can be suppressed after an electrode is cut. - 特許庁

この発明の処理装置１は、ガス状ハロゲン化合物を含むガス流を器内で発生させた放電プラズマと反応させる放電プラズマ反応器２と、前記放電プラズマ反応器で反応した後のガス流を、金属イオンを含有した薬液と接触させるスクラバー３とを備える。例文帳に追加

The treatment apparatus 1 comprises an electric discharge plasma reactor 2 for causing reaction of the gas current containing the gaseous halogen compound with electric discharge plasma generated in the reactor and a scrubber 3 for bringing the gas current after the reaction in the electric discharge plasma reactor into contact with the chemical solution containing the metal ion. - 特許庁

このため、反応容器１内において、反応容器１内で微小な火花放電が発生した場合においても、火花放電の発生がアーク放電の発生などに直結して基板８にダメージを与えることが、抑制される。例文帳に追加

Then, even if a minute spark discharge occurs in the reaction container 1, damage can be controlled directly to effect the substrate 8 by the spark discharge due to arc discharge. - 特許庁

膨張反応により結合された酸化アルミニウム部材を有するセラミック放電容器例文帳に追加

CERAMIC DISCHARGE ENVELOP HAVING ALUMINUM OXIDE MEMBER BONDED BY EXPANSION REACTION - 特許庁

反応容器１内の電極２、３、４間の空間を放電空間５とする。例文帳に追加

A space surrounded by the electrodes 2, 3 and 4 in the reaction chamber 1 is defined as a discharge space 5. - 特許庁

希ガスと反応性ガスをプラズマ生成用ガスとして各反応容器１に導入すると共に大気圧近傍の圧力下で各反応容器１内にグロー放電を発生させる。例文帳に追加

A rare gas and a reactive gas are introduced into the respective reaction vessels 1 as the gases for plasma generation, and further, glow discharge is generated inside the respective reaction vessels 1 under the pressure in the vicinity of the atmospheric pressure. - 特許庁

空気取込口１、乾燥器２、ポンプ３、放電反応容器４、パルスパワー電源５、ＮＯ_2 除去装置６、ＮＯ計測器７および純粋ＮＯ取出口８とを備え、放電反応容器４内の電極同士に所定の電圧を印加することでコロナ放電を生じさせる。例文帳に追加

The device is provided with an air uptake port 1; a dryer 2; a pump 3; a discharge reaction vessel 4; a pulse power source 5; an NO_2 removing apparatus 6; an NO measuring instrument 7; and a pure NO takeoff port 8, and, by applying prescribed voltage between electrodes in the discharge reaction vessel 4, corona discharge is caused. - 特許庁

スパッタリングガスは、スパッタリングガス導入系３０より放電空間１８に導入され、反応ガスは反応ガス導入系３１より放電空間１８外から容器１０内に導入される。例文帳に追加

The sputtering gas is introduced in the discharging space 18 by a sputtering gas introduction system 30, and the reaction gas is introduced in the container 10 by a reaction gas introduction system 31 from the outside of the discharging space 18. - 特許庁