葉板炉の英語

コールドウォール型枚葉式ランプ加熱炉を用いてハロゲンガスあるいはＮ_２Ｏガスを含んだ雰囲気で熱酸化を行う際に、ハロゲンガスやＮ_２Ｏガスがウェーハ直上ではなく、事前に加熱分解された状態でウェーハに到達することが可能なコールドウォール型枚葉式ランプ加熱炉を提供し、半導体基板の膜厚や特性の均一性を向上させた半導体装置を提供する。例文帳に追加

To realize a semiconductor device having enhanced uniformity in the film thickness and characteristics of a semiconductor substrate by providing a cold wall type single wafer processing lamp heating furnace in which halogen gas or N2O gas can reach a wafer under thermally decomposed state when thermal oxidation is conducted in an atmosphere containing halogen gas or N2O gas using a cold wall type single wafer processing lamp heating furnace. - 特許庁

香道においては、線香等のように直接点火するものはあまり用いられず、多くは聞香炉に灰と熾した炭団を入れ、灰を形作り、その上に銀葉という雲母の板をのせ、数ミリ角に薄く切った香木を熱し、香りを発散させる方式がとられる。例文帳に追加

Incense burning is often performed without using any instruments or accessories like senko (incense stick), etc. and is lit directly, and in many cases, it is performed through the processes of putting burned Tadon (charcoal briquettes) in the Monko-ro (or Kikiko-ro; incense burner used in Monko), shaping the ash, putting a mica board called Ginyo on top of the ash, and burning Koboku cutting it into thin cubes measuring a few millimeters, and exuding incense.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

加熱分解した後に酸化性ガスを生成し、半導体基板に酸化膜を形成する反応性ガスを用いて熱酸化を行うコールドウォール型枚葉式ランプ加熱炉において、半導体基板１を収容する反応チャンバー２の、半導体基板の上方に複数の加熱用ランプ３を設け、さらに加熱用ランプ３の間において複数のガス導入孔２２を形成し、このガス導入孔を通して反応性ガスを導入するように構成したことを特徴とする。例文帳に追加

In a cold wall type single wafer processing lamp heating furnace where oxidizing gas is produced after thermal decomposition and thermal oxidation is conducted using a reactive gas for forming an oxide film on a semiconductor substrate, a plurality of heating lamps 3 are arranged above the semiconductor substrate 1 placed in a reaction chamber 2 and a plurality of gas introduction holes 22 are made between the heating lamps 3 in order to introduce the reaction gas. - 特許庁