重原子法の英語

原子（または原子団）転移ラジカル重合に基づく改良された方法、並びに有用な構造及び特性を有する新規な（コ）ポリマー例文帳に追加

IMPROVED PROCESS BASED ON ATOM (OR ATOM GROUP) TRANSFER RADICAL POLYMERIZATION, AND NOVEL (CO)POLYMER HAVING USEFUL STRUCTURE AND CHARACTERISTICS - 特許庁

また、原子力災害対策特別措置法や原子力安全委員会の関連する他の指針との重複部分について整理を行った。例文帳に追加

In addition, the sections that overlapped with the provisions of the Nuclear Emergency Preparedness Act and Regulatory Guide of the NSC were organized. - 経済産業省

炭素原子５個以上のα−オレフィン重合用触媒およびその重合方法例文帳に追加

CATALYST FOR POLYMERIZING α-OLEFIN HAVING FIVE OR MORE CARBON ATOMS AND METHOD FOR POLYMERIZING SAME OLEFIN BY USING THE SAME CATALYST - 特許庁

原子移動ラジカル重合開始剤及びそれを用いる重合体の製造方法例文帳に追加

ATOM TRANSFER RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER USING THE SAME - 特許庁

ジオールとジカルボン酸との反応によりポリエステルを製造する方法において、ポリエステル中に硫黄原子と窒素原子を硫黄原子重量／窒素原子重量として、０．００００１以上、１０以下の量比で存在させる。例文帳に追加

The polyester is manufactured by a reaction of a dicarboxylic acid with a diol, where a sulfur atom and a nitrogen atom are caused to be present in a ratio of the weight of the sulfur atom to the weight of the nitrogen atom of at least 0.00001 and at most 10. - 特許庁

（ここでＸは酸素原子又は他の原子を表わしており；Ｙは水素原子又はフッ素原子を表わしており；Ｚは水素原子又はフッ素原子を表わしており；Ｗは水素原子又はフッ素原子、或いは原子団ＣＦ_３を表わしており；そしてｎは０〜１０迄の（ただし１０を含む）整数（自然数）である。）該モノマーは、新規な共重合化法及び架橋法を可能にし、非常に低いガラス転移点（Ｔｇ）を有するフッ化スルフォン酸基を含むニトリル化合物のエラストマーに供される。例文帳に追加

The monomer enables, by means of new copolymerization methods, to produce a fluorosulphonated nitrile elastomer having a very low glass transition point (Tg). - 特許庁

水素原子が結合していない炭素原子と水素原子が結合した炭素原子とにより形成された重合性二重結合を有する単量体を５０モル％以上含むモノマー混合物を原料として共重合体を製造する方法において、１５０℃以上の重合温度で重合反応を行った後、さらに８０〜１３０℃の温度で加熱を行うことを特徴とするアクリル共重合体の製造方法。例文帳に追加

This method for producing the acrylic copolymer by using a monomer mixture containing ≥50 mol % monomer having a polymerizable double bond formed by carbon atoms not bonding with hydrogen atom and carbon atoms bonded with hydrogen atoms is provided by performing the polymerization at ≥150°C polymerization temperature and then heating further at 80-130°C. - 特許庁

少なくとも２つの炭素原子と、少なくとも１つの水素原子に結合したシリコン原子を有する有機シラン前駆物質を用いて、プラズマ重合法により基板上にレジスト膜を形成する。例文帳に追加

A resist film 16 is formed on a substrate 12 by plasma polymerization using an organosilane precursor having at least two carbon atoms and at least one silicon atom bonding to a hydrogen atom. - 特許庁