高温プラズマの英語

ピン６２，６４間に電圧が印加されると、プラズマ生成剤７２から高温のプラズマが生成し、反応薬剤５８が反応を開始する。例文帳に追加

When voltage is applied between the pins 2 and 64, high temperature plasma is generated from the plasma generating agent 72 and the reaction agent 58 initiates a reaction. - 特許庁

プラズマディスプレイパネルの駆動時に高温及び低温の誤放電の発生を抑制し得るプラズマディスプレイ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma display apparatus which prevents the high/low temperature error discharge from occurring upon driving the plasma display panel. - 特許庁

プラズマジェットを噴射する噴孔の周囲部が高温となることを十分に抑制することができるプラズマ点火装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma ignition device which can sufficiently suppress a high temperature of a peripheral part of an injection hole for injecting a plasma jet. - 特許庁

機関燃焼室内に高温高圧のプラズマを噴射して点火を行うプラズマ式点火装置において、優れた着火性と高い信頼性とを有するプラズマ式点火装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a plasma type ignition device to conduct ignition by injecting high-temperature and high-voltage plasma into a combustion chamber of an internal combustion engine, capable of exerting excellent ignition performance and having high reliability. - 特許庁

プラズマジェットは約4,000〜7,000°Ｃの高温になるため、このプラズマジェットで焼却ガスを加熱することにより焼却ガス中の種々の成分をプラズマ状態に分解し、全く別なガスに改質することができる。例文帳に追加

Since the plasma jet has temperature as high as 4,000-7,000°C, various components of the incineration gas are decomposed into plasma state when the incineration gas is heated in the plasma jet and the incineration gas can be reformed into a totally different gas. - 特許庁

プラズマ処理部５でプラズマ処理されているときのワーク２の最高温度とほぼ同等またはそれ以上の温度になるまでワーク２を予熱部６にて予熱した後、ワーク２をプラズマ処理する。例文帳に追加

The workpiece 2 is preheated by the preheating section 6 up to a temperature nearly equal to or higher than the highest temperature of the workpiece 2 obtained while the workpiece 2 is plasma-treated by the plasma treatment section 5, and then the workpiece 2 is subjected to plasma treatment. - 特許庁

プラズマ閉じ込めリングのプラズマに露出する面上のポリマー堆積を回避するために、これらの面上が十分な高温に達するように構成されたプラズマ閉じ込めリング組立体を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma confinement ring assembly configured so that the planes of a plasma confinement ring exposed to plasma reaches a sufficiently high temperature in order to avoid polymer deposition on these planes. - 特許庁

プラズマを発生させて基体上に成膜するプラズマＣＶＤ装置において、前記プラズマの発生領域を制限するフードが設けられ、そのフードのプラズマと接する表面温度を高温（例えば１５０℃以上）に維持するための加熱手段（例えばヒータ）を設けた。例文帳に追加

In a plasma CVD apparatus to deposit a film on a substrate by generating plasma, a hood to limit a generation region of the plasma is arranged, a heating means (e.g. heater), which maintains a surface temperature to cause the plasma to contact with the hood to a high temperature (e.g. ≥150°C), is arranged. - 特許庁