高速イオンビームの英語

イオンビームの高速退避、一時的退避を、イオンビームのビーム径や断面形状にかかわりなくかつ周辺部材に影響を及ぼすことなく実現できるようにしたイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion implanting device in which the rapid withdrawal and the temporary withdrawal of an ion beam can be performed without giving an effect on a peripheral member irrespective of a beam diameter and a cross-sectional shape of the ion beam. - 特許庁

従来よりも高強度な高速電子ビーム及び高速イオンビームを得ることが出来るターゲット形状を提供する。例文帳に追加

To provide a target shape capable of providing a high-speed electron beam and a high-speed ion beam having high intensity compared with conventional ones. - 特許庁

緻密で平滑かつ損傷がない高品質な薄膜を高速に形成できるイオンビームスパッタ成膜装置等を提供する。例文帳に追加

To provide an ion beam sputtering film deposition apparatus which can form a high-quality thin film that is dense, smooth and faultless. - 特許庁

走査用偏向器を有するイオンビームシステムにおいて、イオンビームの高エネルギー動作モード及び低エネルギー動作モードの両方において、高偏向周波数（高速）で、かつ偏向電圧のダイナミックレンジを広くすることなく高精度に偏向できるようにする。例文帳に追加

To enable an ion beam in an ion beam system having a scanning deflector to be deflected with high accuracy at a high deflection frequency (high speed) and without expanding the dynamic range of a deflection voltage in both high energy and low energy operation modes. - 特許庁

複数のガーネット単結晶の表面を、真空中にてイオンビーム照射、高速原子ビーム照射又はプラズマ処理の何れかを行うことによりエッチングして、清浄及び活性化し、前記表面同士を前記イオンビーム照射、高速原子ビーム照射又はプラズマ処理の動作ガス以外の雰囲気にさらすことなく接触させて直接接合することによってファラデー回転子を形成する。例文帳に追加

Surfaces of the plurality of garnet single crystals are etched by performing ion beam irradiation, high-speed atom beam irradiation, or plasma processing under a vacuum to be cleaned and activated, and then the surfaces are brought into contact with each other without being exposed to an atmosphere except working gas of the ion beam irradiation, high-speed atom beam irradiation or plasma processing, and directly joined together, thereby forming the Faraday rotator. - 特許庁

イオンビーム注入、或いは、高速電子線照射を前処理とし、プラズマプロセッシングを主加工として、金属直面を直接的にセラミックス粒子を多く含む改質層に相変態させる加工法。例文帳に追加

The metal surface is directly phase-transformed into a modified layer containing more ceramic particles with the ion beam implantation, or high-speed electron beam irradiation as the pretreatment, and the plasma processing as the main processing. - 特許庁

基板の形状および温度特性に関わらず、硬質の結晶質薄膜を高速で作製でき、膜の表面粗さが制御可能な、イオンビームを用いた新規な硬質薄膜作製法を提供する。例文帳に追加

To provide a hard thin film forming method using ion beam which is capable of forming a hard crystalline thin film at high speed irrespective of the shape and the temperature characteristic of a substrate, and controlling the surface roughness of the film. - 特許庁