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Al filmsとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「Al films」の意味

Al films

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「Al films」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 67



例文

The above sputtering target can be suitably used for the formation of Nb films 6 as liner material for Al wirings 3, 7.例文帳に追加

これらスパッタターゲットは、Al配線のライナー材としてのNb膜の形成に好適である。 - 特許庁

A lamination layer film consisting of eight layers of Al films 42 and seven layers of SiO2 films 43 is formed on a Si substrate 41 whose surface is washed (b).例文帳に追加

表面を洗浄したSi基板41上に、8層のAl膜42と7層のSiO_2膜43から成る積層膜を形成する(b)。 - 特許庁

To form Al alloy films in microscopic form parts as well, such as contact holes and via holes, with a good coverage, while generation of a whisker is suppressed in the alloy films.例文帳に追加

ウイスカ発生を抑制しながら、コンタクト孔やビア孔などの微細形状部分にも良好な被覆性でAl系合金膜を成膜する。 - 特許庁

In forming an oxidized film on the surface of the Al film and patterning an ITO film, the erosion of the Al film is prevented and the Al oxidized film/the ITO film exhibit the function as antireflection films in the pixel electrodes 66.例文帳に追加

また、Al膜の表面に酸化膜を形成しておき、ITO膜をパターニングする際、Al膜が侵されるのを防止し、かつ、画素電極66では、Al酸化膜/ITO膜が反射防止膜としての機能を発揮させる。 - 特許庁

At least the lower side film of the two films of the cathode electrode 240 comprises a first Al thin film 241 having a lower density and a larger grain size, and the upper film comprises a second Al thin film 242 having a higher density and a smaller grain size compared to the above first Al thin film 241.例文帳に追加

本発明はカソード電極を緻密度が互いに違う二層構造のAl薄膜に形成させることで、酸素または水分に対するパッシベーション機能を向上させ、表示装置の長寿命化できる。 - 特許庁

Since no oxide film is formed on the surfaces of Al crystal grains, the Al crystal grains get large in grain diameter and are improved in orientation, hillocks are produced less, even when heat treatment is carried out after the Al thin films 5a and 5c are formed.例文帳に追加

Alの結晶粒表面に酸化膜が形成されないので、粒径が大きくなり、配向性も向上するため、Al薄膜5a、5cの形成後に熱処理された場合でも、ヒロックの発生が少なくなる。 - 特許庁

例文

To stably manufacture an Al-containing III nitride film having excellent film characteristics by suppressing the threading dislocation density, etc., of all obtained Al-containing III nitride films to a fixed value or lower at the time of continuously forming a plurality of Al-containing III nitride films over a long period of time by the CVD method.例文帳に追加

CVD法により、複数のAl含有III族窒化物膜を長時間に亘って連続して形成する場合に、得られたAl含有III族窒化物膜総ての転位密度などを一定の値以下とし、優れた膜特性のAl含有III族窒化物膜を安定して製造する。 - 特許庁

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「Al films」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 67



例文

When forming the films, the Ti film 7 reacts with the Al-Si alloy film 8 to form an Al-Ti-Si alloy film 11 on the interface thereof, and the Ti film 9 reacts with the Al-Si alloy film 8 to form an Al-Ti-Si alloy film 12 on the interface thereof.例文帳に追加

成膜時にTi膜7とAl−Si合金膜8との反応によりそれらの界面にAl−Ti−Si合金膜11が、Ti膜9とAl−Si合金膜8との反応によりそれらの界面にAl−Ti−Si合金膜12が形成される。 - 特許庁

The device further includes: Ta films 11s and 11d formed over the n-AlGaN layer 4; and Al films 12s and 12d formed over the Ta films 11s and 11d, respectively.例文帳に追加

また、n−AlGaN層4上に形成されたTa膜11s及び11dと、夫々Ta膜11s及び11d上に形成されたAl膜12s及び12dと、が設けられている。 - 特許庁

The device still further includes: Au films 14s and 14d electrically connected to the Ta films 11s and 11d without interposing the Al films 12a and 12d, respectively; and a gate electrode 13g that is located over the n-AlGaN layer 4 between the Ta films 11s and 11d.例文帳に追加

更に、夫々Ta膜11s及び11dにAl膜12s及び12dを介さずに電気的に接続されたAu膜14s及び14dと、n−AlGaN層4上においてTa膜11s及び11dの間に位置するゲート電極13gと、が設けられている。 - 特許庁

The Al electrode layer 4 and the Cu electrode layer 5 in the alternately laminated electrode part 6 are constituted of epitaxial films having a twin crystal structure.例文帳に追加

交互積層電極部6にあるAl電極層4およびCu電極層5は、双晶構造を有するエピタキシャル膜によって構成される。 - 特許庁

A pair of belt-shaped light-reflecting films 10 consisting of aluminum (Al) are plurally formed in parallel on a color filter 2.例文帳に追加

カラーフィルタ2上に、一対の帯状のアルミニウム(Al)からなる光反射膜10が平行に複数形成されている。 - 特許庁

The protective films outside the innermost layer protective film are formed of an inorganic film containing at least one of Al or Ti.例文帳に追加

最内層保護膜よりも外側に位置する保護膜は、Al又はTiの少なくとも1種を含む無機膜で形成する。 - 特許庁

By such a means, the invasion of oxygen (O_2) radicals into an Al-Cu films 13c, 16c can be prevented.例文帳に追加

このようにすれば、Al−Cu膜13c、16cへの酸素(O_2)ラジカルの進入を防ぐことが可能となる。 - 特許庁

例文

Al interconnections 36 (including barrier films 34, 35, 37) of a predetermined pattern is formed on the third wiring layer 5.例文帳に追加

第3配線層5には、所定パターンのAl配線36(各バリア膜34,35,37を含む)が形成されている。 - 特許庁

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「Al films」の意味に関連した用語

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