CCD imagerとは 意味・読み方・使い方

To solve a problem of a conventional CCD imager that its power consumption is increased in a monitoring mode under a situation that the number of pixels for the CCD imager is increasing and the multiple pixel CCD imager is employed for an image pickup device of a camera system compatible with a moving picture/still picture.例文帳に追加

ＣＣＤイメージャの多画素化が進み、その多画素ＣＣＤイメージャが動画/静止画対応のカメラシステムの撮像デバイスとして使用されるようになると、モニタリングモードにおける消費電力の増加が問題となってくる。 - 特許庁

A tubular cover 2 for storing a CCD imager 5 and a transparent cover 3 made of a laser-light translucent member are fused to each other by the incidence of the visible light from a subject into the CCD imager 5 and the irradiation of the engagement part 14 between the tubular cover 2 and the transparent cover 3 with the laser light Q from outside a capsule endoscope casing 4.例文帳に追加

ＣＣＤイメージャ５を収容する筒状カバー２と被検体からの可視光をＣＣＤイメージャ５に入射させ、かつレーザ光透過性の部材により形成された透明カバー３との嵌合部１４を、カプセル内視鏡筐体４の外部からのレーザ光Ｑの照射によって筒状カバー２と透明カバー３とを溶着する。 - 特許庁

To provide an inspection method for precisely detecting the irregularity flaw, which is caused by dimensional or positional gap of a several nm order, of a pattern having periodicity, especially an inspection target like a photomask for a CCD/CMOS imager, and an inspection device.例文帳に追加

周期性のあるパターン、特にＣＣＤ／ＣＭＯＳイメージャー用フォトマスクのような被検査体に対し、数ｎｍオーダーの寸法ズレや位置ズレによって生じるムラ欠陥を精度良く検出するための検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

The rear group lens 112 among three groups; the front group lens, rear group lens and focusing lens sequentially lining up from the front of an optical axis direction is revolved between a position on the optical axis and a retracting position coming into a hollow portion 104 beside the CCD imager 120, so that the rear group lens 112 comes into the hollow portion 104 at the time of the collapse.例文帳に追加

光軸方向前方から順に並ぶ、前群レンズ、後群レンズ、およびフォーカスレンズの３群のうちの後群レンズ１１２を、光軸上の位置と、ＣＣＤ撮像素子１２０の脇の窪み部分１０４に入り込んだ退避位置との間で旋回させ、沈胴時には後群レンズ１１２を窪み部分１０４に入り込ませる。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting irregularity of a periodic pattern that accurately images and detects the irregularity caused by dimension shift and position shift of several nm order in the periodic pattern, especially in an inspecting object such as a photo-mask for a CCD/CMOS imager where the directivity of the cell pitch or pattern varies.例文帳に追加

周期性のあるパターン、特にＣＣＤ／ＣＭＯＳイメージャー用フォトマスクのようにセルピッチやパターンの方向性が多岐にわたるような被検査体に対し、数ｎｍオーダーの寸法ズレや位置ズレによって生じるムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供する。 - 特許庁