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CONFORMAL CONTACTとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 等角接触
「CONFORMAL CONTACT」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
CONTACT BEARING PRESSURE UNDER CONFORMAL CONTACT, AND SUBSURFACE STRESS CALCULATION METHOD例文帳に追加
共形接触下の接触面圧および表面下応力計算方法 - 特許庁
SUPPORT GRID SPRING FOR INCREASING CONFORMAL CONTACT AREA WITH FUEL ROD例文帳に追加
燃料棒と共形接触面積を増加させる支持格子スプリング - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR CALCULATING CONTACT SURFACE PRESSURE AND SUBSURFACE STRESS UNDER CONFORMAL CONTACT例文帳に追加
共形接触下の接触面圧および表面下応力計算方法・計算装置 - 特許庁
At least some parts of the second organic semiconductor material layer are in contact with the conformal layer directly.例文帳に追加
第２有機半導体材料層の少なくともいくらかは前記コンフォーマル層と直接接触する。 - 特許庁
To provide a method capable of calculating the contact bearing pressure in conformal contact and the subsurface stress without using a finite element method.例文帳に追加
有限要素法等を使用する事なく、共形接触における接触面圧および表面下応力の計算をできる方法を提供。 - 特許庁
This thermal type infrared detector is configured so that an infrared reflective coating 2 and a 1st conformal coating 3 are laminated on a silicon substrate 1 containing a contact pad, and also an infrared receiver 5 is supported by a supporting section 6 from surface of the 1st conformal coating 3 with a cavity 4 intervened.例文帳に追加
コンタクトパッドを有するシリコン基板１に赤外線反射膜２と第１の絶縁保護膜３が積層され、赤外線受光部５が支持部６によって、第１の絶縁保護膜３の表面から空洞部４を隔てて支持されている。 - 特許庁
To provide a method capable of calculating contact surface pressure and subsurface stress under conformal contact in a relatively short period of time and with accuracy without using finite element method or boundary element method.例文帳に追加
有限要素法や境界要素法を使用することなく、比較的簡単に短時間で、かつ精度良く、共形接触における接触面圧および表面下応力の計算をできる方法を提供する。 - 特許庁
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「CONFORMAL CONTACT」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
By repeatedly performing the process for a plurality of times (S_9), CVD reaction occurs between the former gas adsorbed on the surface of the substrate and the other gas introduced later, thus a barrier film grows inside a contact hole in a conformal way, and the barrier film having a satisfactory step coverage can be obtained.例文帳に追加
この工程を複数回繰り返して行うと(Ｓ_9)、基板表面に吸着された一方のガスと、後から導入された他方のガスとの間でＣＶＤ反応が生じるので、コンタクトホール内にバリア膜がコンフォーマルに成長し、ステップカバレージのよいバリア膜を得ることができる。 - 特許庁
By repeatedly performing the process for a plurality of times (S_9), CVD (Chemical Vapor Deposition) reaction occurs between the former gas adsorbed on the surface of the substrate and the other gas introduced later, thus a barrier film grows inside a contact hole in a conformal way, and the barrier film having a satisfactory step coverage can be obtained.例文帳に追加
この工程を複数回繰り返して行うと(Ｓ_9)、基板表面に吸着された一方のガスと、後から導入された他方のガスとの間でＣＶＤ反応が生じるので、コンタクトホール内にバリア膜がコンフォーマルに成長し、ステップカバレージのよいバリア膜を得ることができる。 - 特許庁
In this detector, a 2nd infrared absorbing section (an overhang section 12) projects from surface of the conformal coating 8 and extends towards outside the infrared receiver 5 from either the edge of the infrared receiver 5 or inside the electrode section 13 to cover the electrode section 13, the supporting section 6 and the contact pad.例文帳に追加
絶縁保護膜８の表面から第２の赤外線吸収部（庇部１２）が突出し、赤外線受光部５の縁部または電極部１３の内側から赤外線受光部５の外側に向けて延び、電極部１３、支持部６、コンタクトパッドを覆っている。 - 特許庁
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