Full Plate Exposureとは 意味・読み方・使い方

In a process of manufacturing the diffraction optical element through full plate exposure and dry etching by means of an exposure device, an exposure wavelength used upon the patterning of the diffraction optical element is approximately equal to the wavelength used upon the usage of the finished diffraction optical element.例文帳に追加

回折光学素子を露光装置による一括露光とドライエッチングにより作製するプロセスにおいて、回折光学素子にパターンニングを行う際に使用される露光波長と、出来上がった回折光学素子を使用する際に用いられる波長とが、ほぼ同一であることを特徴とする回折光学素子の作製方法である。 - 特許庁

A ink jet printer head 5 is scanned with rotating a roll 1 to be subjected to plate making which is covered with a photosensitive flexographic material and the negative mask image is formed, after full-surface exposure is carried out, the removing and developing of the mask image is performed to dissolve an unexposed part of the photosensitive flexographic material.例文帳に追加

感光性フレキソ材料で覆われている被製版ロール１を回転駆動し、インクジェット型プリンタヘッド５を走査し、ネガチブなマスク画像を形成し、全面露光を行ってからマスク画像の除去・現像を行って感光性フレキソ材料の未露光部分を溶解する。 - 特許庁