一括露光の英語

図形一括電子線露光用データ処理方法及び電子線露光方法例文帳に追加

METHOD FOR PROCESSING DATA FOR PATTERN IN-BATCH CELL PROJECTION TO ELECTRON BEAM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE - 特許庁

パターン作製法として、電子ビーム一括露光法を用いる。例文帳に追加

An electron beam batch exposure method is used as a pattern manufacturing method. - 特許庁

荷電ビーム一括露光用透過マスクおよびその製造方法例文帳に追加

TRANSMITTING MASK FOR CHARGED BEAM BATCH EXPOSURE AND ITS MANUFACTURE - 特許庁

電子線一括露光において、高スループットに露光することが可能で、かつ、つなぎによる歩留まりの低下を軽減することが可能なステンシルパターン領域を持つ、電子線一括露光用ステンシルマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a stencil mask for batch electron beam exposure having a stencil pattern region capable of exposing to high throughput in batch electron beam exposure while reducing the loss of yield due to connection. - 特許庁

電子ビーム露光における近接効果の補正を部分一括露光法によって行う電子ビーム露光用マスク、電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an electron beam exposure mask, and electron beam exposure method and device wherein proximity effect in electron beam exposure is corrected by partial collective exposure method. - 特許庁

このように、「合わせ中心」を移動することによって、一括露光用のマークで分割露光の位置合わせが可能になる。例文帳に追加

The alignment of the divided exposure with marks for simultaneous exposure is made possible by moving the 'alignment center' in the manner described above. - 特許庁

スキャン露光装置における１ショットを、一括して露光可能なイメージフィールドを有する投影光学系ＰＬを備えている。例文帳に追加

The scanning projection aligner comprises a projection optical system PL having an image field, capable of being simultaneously exposed at one shot of the scanning projection aligner. - 特許庁

２以上の光ビームを一括して露光する露光装置を用いた画像形成装置において、ミラーのドリフトの影響を低減する。例文帳に追加

To reduce the influence of the drift of a mirror in an image forming device using an exposure device which performs exposure by using two or more light beams all together. - 特許庁