LDD structureとは 意味・読み方・使い方

THIN FILM TRANSISTOR WITH LDD STRUCTURE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＬＤＤ構造を有する薄膜トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁

The other thin film transistor having a first LDD structure and a second LDD structure which is adjacent to the first LDD structure is also provided.例文帳に追加

他の薄膜トランジスタとして、第１のＬＤＤ構造と第２のＬＤＤ構造を有し、第２のＬＤＤ構造が第１のＬＤＤ構造に隣接したものが提供される。 - 特許庁

To form an impurity region having an LDD structure, only through a one-time ion implantation step, without forming a gate spacer film.例文帳に追加

ゲートスペーサ膜を形成せずに１回のイオン注入工程のみでLDD構造の不純物領域を形成する。 - 特許庁

To provide a higher driving capacity than with a single LDD structure by improving hot carrier resistance compared to a concentional MOSFET of single LDD layer and double LDD layer structure.例文帳に追加

従来の１重ＬＤＤ層及び２重ＬＤＤ層構造のＭＯＳＦＥＴよりもホットキャリア耐性を改善し、１重ＬＤＤ層構造のものよりも高駆動能力化する。 - 特許庁

To prevent occurrence of variations of property of a Gate-Overlapped LDD (GOLD) structure caused by generation of asymmetry of left and right LDD regions resulting from overlapping accuracy, in a photoengraving process at the time of gate electrode formation, in the manufacturing method of the GOLD structure for improving reliability.例文帳に追加

信頼性向上のためのGate-Overlapped LDD(GOLD)構造の製造方法において、ゲート電極形成時の写真製版工程で、重ね合わせ精度に起因して左右のLDD領域に非対称性が発生することによって、特性のばらつきが発生することを抑制する。 - 特許庁

GOLD structure and LDD structure can separately be used according to circuit specifications.例文帳に追加

回路仕様に応じてＧＯＬＤ構造とＬＤＤ構造とを使い分けることができる。 - 特許庁

A single LDD structure 224 is positioned between a source/drain structure 2211 and 2221.例文帳に追加

単一ＬＤＤ構造２２４がソース／ドレイン構造２２１１，２２２１の間に配置される。 - 特許庁

Thus the GOLD structure and the LDD structure can be properly used corresponding to a circuit type.例文帳に追加

このように回路仕様に応じてＧＯＬＤ構造とＬＤＤ構造とを使い分けることができる。 - 特許庁