No chamferとは 意味・読み方・使い方

To provide a glass substrate which has no pit defect at a chamfer part.例文帳に追加

本発明は、ガラス基板の面取り部にピット欠陥がないガラス基板の提供を目的とする。 - 特許庁

A chamfer 31 is formed in the front window 30, and no ultraviolet ray curable resin 40 adheres to the chamfer 31 of the front window 30.例文帳に追加

フロントウインドウ３０には面取り３１が形成されており、フロントウインドウ３０の面取り３１には紫外線硬化樹脂４０は付着していない。 - 特許庁

Thus it is possible to chamfer the opening tops, without depositing Cu to the opening side walls, even if the lower layer is a Cu wiring, hence avoid diffusing Cu atoms and form metal electrodes contg. no voids.例文帳に追加

これにより、下層が銅配線であっても、開口部側壁に銅が付着することなく開口部上部の角落としが可能となるため、銅原子の拡散を防止しかつ空洞のない金属電極の形成が可能となる。 - 特許庁

Since the light shielding material 33 of the front window 30 is formed, no light from a backlight intrudes from the chamfer 31 of the front window 30.例文帳に追加

フロントウインドウ３０の面取り遮光材３３が形成されているので、フロントウインドウ３０の面取り３１からバックライトからの光が侵入することは無い。 - 特許庁

To provide a wafer-chamfering method which is capable of chamfering the wafer stably, without causing stains or clouding to the wafer, when the wafer is subjected to a chamfering process, obtaining the wafers of high quality with a high yield, and obtaining the wafers where no chamfer stains or no mark is found when the chamfered parts of the wafer are checked.例文帳に追加

ウエーハに面取り加工を行う際に、面取り部の形成を汚れやクモリ等を発生させずに安定して行うことができ、面取り部の検査において面取り汚れやキズ等が検出されない高品質のウエーハを高歩留りで得ることのできるウエーハの面取り加工方法を提供する。 - 特許庁

The display device is equipped with the first substrate plate, an adhesive layer and the second substrate plate in this order, wherein the first substrate plate and the second substrate plate are adhered with each other by the adhesive layer and the adhesive layer has no substrate and has an angular part formed by roundness chamfer.例文帳に追加

第１基板と粘着層と第２基板とをこの順に備えた表示装置であって、上記第１基板と上記第２基板とは、上記粘着層によって全面接着されており、上記粘着層は、基材を有さず、かつ、Ｒ面取りされた角部を有する表示装置である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for acquiring a glass substrate for magnetic recording medium polishing an end face of a glass substrate at a high polishing speed while suppressing a use of cerium oxide abrasives and producing no work-affected layer like a flaw on the end face such as a chamfer part or the like.例文帳に追加

ガラス基板の端面を酸化セリウム砥粒の使用をできるだけ抑えながら、かつ高い研磨速度で研磨し、面取り部等の端面にキズ等の加工変質層がない磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。 - 特許庁