Resist processing equipmentとは 意味・読み方・使い方

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a cleaning/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、洗浄／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、洗浄処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

To form structure having proper workability in a substrate processing equipment where a cassette station and a processing station are connected each other and the substrate discharged from a substrate cassette is liquid-processed in a liquid-processing unit of the processing station, e.g., in an equipment of coating or development forming a resist pattern.例文帳に追加

カセットステーションと処理ステーションを接続し、基板カセットから取り出された基板を処理ステーション内の液処理ユニットにて液処理する基板処理装置、例えばレジストパターンを作る塗布、現像装置において、作業性の良い構成とすること。 - 特許庁

To provide a coat processing method and coat processing device capable of reducing the quantity of a coating liquid to be applied without bringing the increase of the equipment cost in the coating of the whole surface of a substrate with a coating liquid such as a resist liquid.例文帳に追加

レジスト液のような塗布液を基板の全面に塗布するにあたり、装置コストの高騰を招くことなく、塗布液の使用量を削減することができる塗布処理方法および塗布処理装置を提供すること。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes: a peripheral exposure device for exposing the edge of the resist film formed on a film to be processed; and equipment for heating the edge of the resist film simultaneously with peripheral exposure, or after peripheral exposure and before development.例文帳に追加

また、基板処理装置は、被加工膜上に形成されたレジスト膜の縁を周辺露光する周辺露光装置と、周辺露光するのと同時に、または周辺露光した後であって現像する前に、レジスト膜の縁を加熱する加熱装置と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide wafer processing equipment, wherewith mist of treatment liquid or the like is prevented from flying out of a cup and the thickness of films of resist applied to wafer surfaces is uniformized.例文帳に追加

カップ外部への処理液等のミストの飛散を防止することができ、ウエハ表面に塗布されるレジスト膜厚を均一にすることができるウエハ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide semiconductor manufacturing equipment and and a method of manufacturing of a semiconductor device capable of improving a resist selection ratio in consecutive processing stability and etching dimensions in continuous stability, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

レジスト選択比の連続処理安定性、エッチング寸法の連続安定性を高める半導体製造装置、半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁