Substrate Uniformityとは 意味・読み方・使い方

To improve the uniformity of light exposure on a substrate after the light exposure.例文帳に追加

露光後の基板上の露光量均一性を良好にする。 - 特許庁

To improve uniformity of plasma processing on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面におけるプラズマ処理の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a substrate cooling apparatus capable of cooling a substrate with high uniformity.例文帳に追加

均一性高く基板を冷却することができる基板冷却装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain satisfactory temperature uniformity in a substrate surface.例文帳に追加

基板面内において良好な均熱性を得ることを可能とする。 - 特許庁

To improve the intra-surface uniformity of a substrate processing, when performing the substrate processing by feeding a gas to a substrate.例文帳に追加

基板にガスを供給して基板の処理を行うにあたり、基板の処理の面内均一性を高めること。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of processing a substrate by improving a uniformity of a film thickness within a plane of the substrate.例文帳に追加

基板の面内の膜厚均一性を向上させて基板を処理できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for improving thermal uniformity of a substrate in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for heating the substrate while conveying the substrate.例文帳に追加

基板を搬送しつつ加熱する基板処理装置および基板処理方法において、基板の熱均一性を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

As a result, uniformity can be improved in the immersion processing of the substrate W.例文帳に追加

その結果、基板Ｗの浸漬処理の均一性を向上できる。 - 特許庁