alkali etchantとは 意味・読み方・使い方

The silicon wafer is etched using the etchant containing diethylenetriamine pentaacetic acid (DTPA) in an alkali solution.例文帳に追加

アルカリ溶液中にジエチレントリアミン５酢酸（ＤＴＰＡ）を含有するエッチング液を用いて、シリコンウェーハのエッチングを行う。 - 特許庁

To provide an alkali etchant which suppresses the degradation of the global flatness of a wafer and can reduce enough its glossiness.例文帳に追加

グローバル平坦度の劣化を抑え、かつウェーハの光沢度を充分に低下させ得るアルカリエッチャントを提供する。 - 特許庁

The aqueous alkali solution contains potassium hydroxide or sodium hydroxide and the concentration of an alkali component in the etchant is in the range of 1 to 60 mass%.例文帳に追加

アルカリ水溶液は、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムを含み、エッチング液中のアルカリ成分の濃度が１質量％〜６０質量％の範囲内とする。 - 特許庁

To provide an etching device and an etching method, wherein etching efficiency is high, and alkali permanganic acid etchant is used.例文帳に追加

エッチング効率の高いアルカリ過マンガン酸エッチング液を用いたエッチング処理装置及びエッチング処理方法を提供することにある。 - 特許庁

A silicon etchant is an alkaline solution containing an alkali compound, hydroxylamines, and acid, and characterized in anisotropically dissolving single-crystal silicon; and the etching method for silicon using the same etchant.例文帳に追加

アルカリ化合物、ヒドロキシルアミン類および酸を含有したアルカリ性水溶液であって、単結晶シリコンを異方性に溶解することを特徴としたシリコンエッチング液、且つ該エッチング液を用いるシリコンのエッチング方法。 - 特許庁

The silicon substrate is subjected to a chemical etching treatment using an etchant containing an aqueous alkali solution and a surfactant to form the irregularities on the surface thereof.例文帳に追加

シリコン基板をアルカリ水溶液と界面活性剤とを含んだエッチング液を用いて化学エッチングをすることにより、表面に凹凸を形成する。 - 特許庁

This method comprises decreasing the copper foil thickness to 30%-60% of an original thickness with a cupric chloride etchant at first, and further etching it with the alkali persulfate etchant to decrease the thickness to 5%-75% of the original thickness.例文帳に追加

先ず塩化第二銅系エッチング液を用いて元の銅箔厚みに対して３０％〜６０％の厚みにした後、過硫酸アルカリ塩エッチング液を用いて更にエッチングを行い、銅箔の厚さを元の５％〜７５％にする。 - 特許庁

The etchant composition for etching a surface of a single-crystal silicon substrate to form an uneven shape contains an alkali compound, an organic solvent, and a surfactant.例文帳に追加

エッチング液組成物は、単結晶シリコン基板の表面をエッチングして凹凸形状を形成するエッチング液組成物であって、アルカリ化合物と、有機溶剤と、界面活性剤とを含む。 - 特許庁