hydroxylaminesとは 意味・読み方・使い方

To provide a resist removing agent containing no hydroxylamines, showing excellent removing property for a resist, and inducing no corrosion in an aluminum alloy or titanium.例文帳に追加

本発明の目的は、ヒドロキシルアミンを含有せず、優れたレジスト剥離性を示すとともに、アルミ合金やチタンに対して腐食を起こさないレジスト剥離剤を提供することにある。 - 特許庁

The cleaning solution for electronic parts contains (a) at least one kind of ≥2 C aliphatic alcoholic compound having at least one mercapto group in a molecule, (b) an organic hydroxide, and (c) at least one kind of alkaline compound selected from the groups consisting of inorganic hydroxides, alkanolamines and hydroxylamines.例文帳に追加

（ａ）分子内に少なくとも１つのメルカプト基を含む、炭素数が２以上の脂肪族アルコール系化合物の少なくとも１種、（ｂ）有機系水酸化物、及び（ｃ）無機系水酸化物、アルカノールアミン類およびヒドロキシルアミン類からなる群から選ばれる少なくとも１種のアルカリ性化合物、を含有してなることを特徴とする電子部品用洗浄液。 - 特許庁

The objective polymer removing solution composition contains (1) at least one fluoride salt or difluoride salt comprising hydrofluoric acid and one selected form the group comprising ammonia, hydroxylamines, aliphatic amines, aromatic amines and aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, (2) at least one oxygen-containing organic solvent selected from alcohols and ketones and (3) water.例文帳に追加

(1)フッ化水素酸とアンモニア、ヒドロキシルアミン類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、脂肪族ないし芳香族第４級アンモニウム塩からなる群から選ばれるフッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも１種；(2)アルコール類及びケトン類からなる少なくとも１種の含酸素有機溶媒；及び(3)水を含むことを特徴とするポリマー剥離液組成物。 - 特許庁

To provide an etchant and an etching method that can greatly facilitate a processing shape confirming operation in etching processing which should have been done frequently by suppressing a temporal decrease in etching speed during continuation of warming unique to an etchant containing hydroxylamines, in etching processing of silicon, especially, anisotropic etching of silicon in a manufacturing process of an MEMS component.例文帳に追加

シリコンのエッチング加工、特にＭＥＭＳ部品の製造工程におけるシリコンの異方性エッチング加工において、ヒドロキシルアミン類を含有するエッチング液に特有な加温継続時のエッチング速度の経時低下を抑制することによって、頻繁に行わざるを得なかったエッチング処理中の加工形状確認操作を大幅に簡略化できる、エッチング液およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

This removing solution composition consists of (a) 2-30 wt.% hydroxylamines, (b) 2-35 wt.% water, (c) 25-40 wt.% monoethanolamine and/or 2-(2-aminoethoxy) ethanol, (d) 20-32 wt.% N-methyl-2-pyrrolidone and/or diethylene glycol monobutyl ether and (e) 2-20 wt.% aromatic hydroxy compound.例文帳に追加

（ａ）ヒドロキシルアミン類２〜３０重量％、（ｂ）水２〜３５重量％、（ｃ）モノエタノールアミンおよび／または２−（２−アミノエトキシ）エタノール２５〜４０重量％、（ｄ）Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよび／またはジエチレングリコールモノブチルエーテル２０〜３２重量％、および（ｅ）芳香族ヒドロキシ化合物２〜２０重量％からなるホトレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたホトレジスト剥離方法。 - 特許庁

The remover for a photoresist contains (a) hydroxylamines, (b) an aromatic hudroxy compound, (c) benzotriazole or its derivative, (d) amines each having an acid dissociation constant (pKa) of 7.5-13 in an aqueous solution at 25°C and (e) a water-soluble organic solvent and/or (f) water.例文帳に追加

（ａ）ヒドロキシルアミン類、（ｂ）芳香族ヒドロキシ化合物、（ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（ｄ）２５℃の水溶液における酸解離定数（ｐＫａ）が７．５〜１３のアミン類、並びに（ｅ）水溶性有機溶媒および／または（ｆ）水、を含有してなるホトレジスト用剥離液、およびこれを用いたホトレジスト剥離方法。 - 特許庁