arf-1.2とは 意味・読み方・使い方

Thus, a high-throughput scanning exposure apparatus having a mounted high-NA lens is manufacturable at a low cost, especially, an exposure apparatus using an ArF immersion optical system having an NA of about 1.2 is providable at a low cost.例文帳に追加

この構成によって、高ＮＡレンズを搭載した高スループットのスキャン型露光装置が安価に製造でき、特にＮＡが１．２程度のＡｒＦ液浸光学系を適用した露光装置を低価格で提供できるようになる。 - 特許庁

In order to use the photomask blank for producing a mask for ArF exposure, the film thickness and composition of the light shielding film 12 are selected to obtain the optical density OD of the film in the range of 1.2 to 2.3 with respect to light at 193 nm or 248 nm wavelength.例文帳に追加

このフォトマスクブランクをＡｒＦ露光用のマスク作製用とする場合には、遮光性膜１２の光学濃度が、波長１９３ｎｍまたは２４８ｎｍの光に対して１．２〜２．３の範囲の値となるように、その膜厚と組成が選択される。 - 特許庁

In order to use the halftone phase shift mask blank for producing a mask for ArF exposure, the film thickness and composition of the light shielding film 12 are selected to obtain the optical density OD of the film in the range of 1.2 to 2.3 with respect to light at 193 or 248 nm wavelength.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクをＡｒＦ露光用のマスク作製用とする場合には、遮光性膜１２の光学濃度ＯＤが、波長１９３ｎｍまたは２４８ｎｍの光に対して１．２〜２．３の範囲の値となるように膜厚と組成が選択される。 - 特許庁