atomic adsorptionとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF ADSORPTION REMOVAL OF ATOMIC HYDROGEN AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

原子状水素吸着除去方法およびその装置 - 特許庁

The hydrogen atomic adsorption surface (8) is disposed adjacent to the insulating layer (3).例文帳に追加

各水素原子吸着表面部（８）は、絶縁層（３）に隣接して配置されている。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ADSORPTION SITE BLOCKING ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD例文帳に追加

半導体装置及びその製造方法、並びに吸着サイト・ブロッキング原子層堆積法 - 特許庁

The apparatus for adsorption removal of atomic hydrogen is provided with an adsorption removal part comprising the inconel and a heating mechanism for heating the inconel and the inconel from which atomic hydrogen is desorbed is used to be exposed in the objective gas containing atomic hydrogen.例文帳に追加

原子状水素吸着除去装置は、インコネルとインコネルを加熱する加熱機構とからなる吸着除去部を備え、原子状水素を脱離した状態のインコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露して用いる。 - 特許庁

The method of adsorption removal of atomic hydrogen includes a desorption step for desorbing atomic hydrogen adsorbed by an inconel by heating the inconel and an adsorption removal step for adsorbing and removing atomic hydrogen in an objective gas by exposing the inconel to the objective gas containing atomic hydrogen.例文帳に追加

原子状水素吸着除去方法は、インコネルを加熱することによりインコネルに吸着した原子状水素を脱離させる脱離工程と、インコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露することにより対象ガス中の原子状水素を吸着除去する吸着除去工程とを含む。 - 特許庁

The catalytic metal layer (1) includes an outer face (4), and an inner face (7) containing at least one hydrogen atomic adsorption surface (8).例文帳に追加

触媒金属層（１）には、外面（４）、および少なくとも１つの水素原子吸着表面部（８）を含む内面（７）が含まれる。 - 特許庁

A surface area of the outer face (4) is larger than the entire surface area of at least one hydrogen atomic adsorption surface (8) by at least 100%.例文帳に追加

外面（４）の表面面積は、少なくとも１つの水素原子吸着表面部（８）全ての全表面面積より少なくとも１００％大きい。 - 特許庁