beam-plasma systemとは 意味・読み方・使い方

A treatment device composed of: an electron beam excitation ion source for generating nitrogen atom plasma with a high density and a high dissociation degree; a treatment tank for storing plasma and performing nitriding treatment; a vacuum system device; a heating apparatus; and a gaseous starting material system device is used.例文帳に追加

高密度・高解離度の窒素原子プラズマを発生させるための電子ビーム励起イオン源、プラズマを溜め窒化処理を行う処理槽，真空系装置，加熱装置，原料ガス系装置からなる処理装置を使用する。 - 特許庁

The focused ion beam device is provided with a plasma type gas ion source to generate ion beams and an ion optical system to concentrate ion beams generated from the plasma gas ion source on a test piece.例文帳に追加

イオンビームを発生させるプラズマ型ガスイオン源と、プラズマ型ガスイオン源から発生したイオンビームを試料上に集結させるイオン光学系を備えた集束イオンビーム装置である。 - 特許庁

To provide a method for igniting plasma in a focused ion beam system in which the inductively coupled plasma ion source is biased to a high dc voltage.例文帳に追加

誘導結合プラズマイオン源が高ｄｃ電圧にバイアスされた集束イオンビームシステムにおいて、イオン源内のプラズマに点火する方法を提供する。 - 特許庁

In the focused ion beam system, a high dc voltage of a biasing power supply 930 connects to an oscillatory waveform from a plasma igniter 950 near a focused ion beam column and applies to a source biasing electrode 906 comprising a part of a plasma chamber 954.例文帳に追加

バイアス電源９３０からの高ｄｃ電圧は、集束イオンビームカラムの近くでプラズマ点火装置９５０からの振動波形が結合（重畳）されて、プラズマ室９５４の一部を構成する源バイアス電極９０６に印加される。 - 特許庁

To provide an electron beam with a pole piece projected into a plasma system in which the change in the magnetic properties of the pole piece can be suppressed even if being exposed to plasma, thus the trajectory of an electron beam can stably be kept.例文帳に追加

プラズマ装置内に突出するポールピースを備えた電子ビームガンにおいて、プラズマに晒されてもポールピースの磁気特性の変化を抑えることができ、これにより電子ビームの軌道を安定に保つことが可能な電子ビームガンを提供する。 - 特許庁

At the time of laser beam welding, reflected light beams Lr and plasma beams Lp, which are welding light beams emitted from a work 800, are acquired optically coaxially with a laser projecting beam Lw through an optical system in a laser torch 603.例文帳に追加

レーザ溶接時にワーク８００から放出される溶接光である反射光Ｌｒおよびプラズマ光Ｌｐをレーザトーチ６０３内部の光学系を通してレーザ照射光Ｌｗと光学的に同軸で取得する。 - 特許庁

In vacuum arc deposition treatment where a plasma beam 70 of a cathode substance is introduced into a film depositing substrate 31 to deposit a film, based on a control signal 101 from an outside control system 100, a magnetic field is applied to scan the plasma beam 70, and the loci of of the beam drawn inside the substrate face of the film depositing substrate 31 are made rotatively symmetrical.例文帳に追加

陰極物質のプラズマビーム７０を成膜基板３１まで導いて膜を形成する真空アーク蒸着処理において、外部の制御装置１００からの制御信号１０１に基づいて、磁場を印加してプラズマビーム７０を走査し、成膜基板３１の基板面内に描くビームの軌跡が回転対称となるようにした。 - 特許庁

To provide a plasma sputtering system by which a thin film of required components is deposited on a surface, and a high capacity material is produced by utilizing an electoron beam exciting plasma system and utilizing a solid target in place of gas as for a part of components.例文帳に追加

電子ビーム励起プラズマ装置を利用し、一部の成分についてガスの代わりに固体ターゲットを利用することにより必要な成分の薄膜を表面に堆積させて高性能材料を製造するプラズマスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁