「beam-plasma system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a plasma accelerator which can not only efficiently accelerate travelling speed of a plasma beam but is easy to produce and compose, and a plasma processing system equipped with the plasma accelerator.例文帳に追加

プラズマビームの移動速度を効率よく高められるのみならず、作製及び構成が簡単なプラズマ加速装置及び該装置を備えるプラズマ処理システムを提供する。 - 特許庁

This ion source includes a plasma forming part 2 for forming plasma 4 and an electrode system 10 for drawing an ion beam 6 from the plasma 4 inside the plasma forming part 2 to draw the ion beam 6 including indium ions of divalent ion.例文帳に追加

このイオン源は、プラズマ４を生成するプラズマ生成部２と、このプラズマ生成部２内のプラズマ４からイオンビーム６を引き出す引出し電極系１０とを備えていて、２価のインジウムイオンを含むイオンビーム６を引き出すものである。 - 特許庁

A treatment device composed of: an electron beam excitation ion source for generating nitrogen atom plasma with a high density and a high dissociation degree; a treatment tank for storing plasma and performing nitriding treatment; a vacuum system device; a heating apparatus; and a gaseous starting material system device is used.例文帳に追加

高密度・高解離度の窒素原子プラズマを発生させるための電子ビーム励起イオン源、プラズマを溜め窒化処理を行う処理槽，真空系装置，加熱装置，原料ガス系装置からなる処理装置を使用する。 - 特許庁

The focused ion beam device is provided with a plasma type gas ion source to generate ion beams and an ion optical system to concentrate ion beams generated from the plasma gas ion source on a test piece.例文帳に追加

イオンビームを発生させるプラズマ型ガスイオン源と、プラズマ型ガスイオン源から発生したイオンビームを試料上に集結させるイオン光学系を備えた集束イオンビーム装置である。 - 特許庁

To provide a method for igniting plasma in a focused ion beam system in which the inductively coupled plasma ion source is biased to a high dc voltage.例文帳に追加

誘導結合プラズマイオン源が高ｄｃ電圧にバイアスされた集束イオンビームシステムにおいて、イオン源内のプラズマに点火する方法を提供する。 - 特許庁

In the focused ion beam system, a high dc voltage of a biasing power supply 930 connects to an oscillatory waveform from a plasma igniter 950 near a focused ion beam column and applies to a source biasing electrode 906 comprising a part of a plasma chamber 954.例文帳に追加

バイアス電源９３０からの高ｄｃ電圧は、集束イオンビームカラムの近くでプラズマ点火装置９５０からの振動波形が結合（重畳）されて、プラズマ室９５４の一部を構成する源バイアス電極９０６に印加される。 - 特許庁

To provide an electron beam with a pole piece projected into a plasma system in which the change in the magnetic properties of the pole piece can be suppressed even if being exposed to plasma, thus the trajectory of an electron beam can stably be kept.例文帳に追加

プラズマ装置内に突出するポールピースを備えた電子ビームガンにおいて、プラズマに晒されてもポールピースの磁気特性の変化を抑えることができ、これにより電子ビームの軌道を安定に保つことが可能な電子ビームガンを提供する。 - 特許庁

At the time of laser beam welding, reflected light beams Lr and plasma beams Lp, which are welding light beams emitted from a work 800, are acquired optically coaxially with a laser projecting beam Lw through an optical system in a laser torch 603.例文帳に追加

レーザ溶接時にワーク８００から放出される溶接光である反射光Ｌｒおよびプラズマ光Ｌｐをレーザトーチ６０３内部の光学系を通してレーザ照射光Ｌｗと光学的に同軸で取得する。 - 特許庁

In vacuum arc deposition treatment where a plasma beam 70 of a cathode substance is introduced into a film depositing substrate 31 to deposit a film, based on a control signal 101 from an outside control system 100, a magnetic field is applied to scan the plasma beam 70, and the loci of of the beam drawn inside the substrate face of the film depositing substrate 31 are made rotatively symmetrical.例文帳に追加

陰極物質のプラズマビーム７０を成膜基板３１まで導いて膜を形成する真空アーク蒸着処理において、外部の制御装置１００からの制御信号１０１に基づいて、磁場を印加してプラズマビーム７０を走査し、成膜基板３１の基板面内に描くビームの軌跡が回転対称となるようにした。 - 特許庁

To provide a plasma sputtering system by which a thin film of required components is deposited on a surface, and a high capacity material is produced by utilizing an electoron beam exciting plasma system and utilizing a solid target in place of gas as for a part of components.例文帳に追加

電子ビーム励起プラズマ装置を利用し、一部の成分についてガスの代わりに固体ターゲットを利用することにより必要な成分の薄膜を表面に堆積させて高性能材料を製造するプラズマスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a microwave ion source or a plasma source stabilizing beam current without precise magnetic field adjustment by reducing change of plasma density caused by change of strength of magnet field in axial direction or ion beam current, and to provide an application device utilizing the above devices such as a linear accelerator system, an accelerator system for medical use, or the like.例文帳に追加

軸方向磁場の強度変化によるプラズマ密度或いはイオンビーム電流の変化を低減し、精密な磁場調整なしでビーム電流を安定化するマイクロ波イオン源或いはプラズマ源と、それを利用した線形加速器システム、医療用加速器システム等の機器等の応用装置を提供する。 - 特許庁

In an electron beam exciting plasma system provided with a discharge chamber 1 and a process chamber 2 adjacent thereto via a bottleneck and installed with an accelerating electrode 21 and a sample stand 3, target 4 is arranged at the process chamber 2, reaction plasma is acted, and sputtering is performed.例文帳に追加

放電室１とこれと隘路を介して隣接し加速電極２１と試料台３が設置されたプロセス室２とを備える電子ビーム励起プラズマ装置において、プロセス室２にターゲット４を配置して反応プラズマを作用させてスパッタリングするようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

The plasma processing system includes an electron source electrode, where direct current (DC) power is coupled to generate a ballistic electron beam in etching a substrate.例文帳に追加

基板のエッチング中に弾道電子ビームを生成するために、プラズマ処理システムは、直流（ＤＣ）電力が結合される電子源電極を含んでいる。 - 特許庁

To provide a method for performing milling and imaging in a focused ion beam (FIB) system employing an inductively coupled plasma ion source.例文帳に追加

誘導結合プラズマ・イオン源を使用した集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムにおいてミリングおよび画像化を実行する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electron beam excited plasma film formation system which prevents the film formation rate declinination and realizes the homogenization of the film composition, even when the kinds of a raw material gas are changed or when a mixed gas is used.例文帳に追加

原料ガスの種類が変化したり、混合ガスを用いる場合でも、成膜速度の低下を防ぎ、成膜組成の均質化を図ることができる電子ビーム励起プラズマ成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lighting apparatus which has high durability for particles splashing when plasma is generated and is capable of detecting optical performance of a spectro-optical system by utilizing the light not used as the lighting beam.例文帳に追加

プラズマ発生時に飛散する粒子に対する高い耐久性を有し、かつ照明光として用いない光を利用して分光光学系の光学性能を検出することができる照明装置を提供する。 - 特許庁

The radiation source also includes: a laser system configured to direct a laser beam to the radiation source material in the plasma starting site for generating plasma releasing extreme ultraviolet; and a catch configured to catch the radiation source material to be transmitted from the radiation source material target delivery system.例文帳に追加

放射源は、極端紫外線を放出するプラズマを生成するためにレーザビームをプラズマ開始サイトにおける放射源材料に向けるように構成されたレーザシステム、および放射源材料ターゲットデリバリシステムにより送られる放射源材料を捕捉するように構成されたキャッチも含む。 - 特許庁

In the EUV exposure device employing the plasma light source, the beam from the plasma light source is reflected by a braze type grating having a predetermined structure whereby the EUV light can be taken out of the beams while separating the EUV light from other unnecessary light, and the incidence of unnecessary beams into the optical system of the exposure device is prevented.例文帳に追加

プラズマ光源を用いたＥＵＶ露光装置において、当該プラズマ光源からの光線を所定の構造を有するブレーズ型回折格子で反射させることにより、当該光線のうちからＥＵＶ光をその他の不要光と分離して取り出すことが可能となり、不要な光線が露光装置の光学系に入射することを防止する。 - 特許庁

To provide a doping system generating plasma (ion), accelerating it by high voltage to form an ion current, irradiating a substrate with it and furthermore, irradiating the substrate with a linear laser beam, and especially suitable for treatment of a wide area substrate.例文帳に追加

プラズマ（イオン）を発生させて、これを高電圧で加速してイオン流を形成し、これを基板に照射し、更に基板に線状レーザー光を照射するドーピング装置において、特に大面積基板を処理するのに適した装置を提案する。 - 特許庁

To a system for receiving heat of a high heat-flux beam/energy recovery which enables not only reception of heat of high heat flux of a beam and a plasma flow concentrating on a narrow range, but also the high-efficiency recovery of energy, and prevents vacuum degradation due to metal vapor in a chamber where it appears through the interposing of liquid metals.例文帳に追加

狭い範囲に集中するビームやプラズマ流の高熱流束を、液体金属を介在することで、受熱するだけでなく、高効率のエネルギー回収を行うことができ、金属蒸気が発生した室内の金属蒸気による真空劣化を防止する高熱流束ビーム受熱・エネルギー回収システムを提供する。 - 特許庁

An electron generation source 28 applied with a lower voltage than that of the electrode 16 kept at the lowest voltage in the drawing electrode system 14 is arranged to generate electrons towards the electron-receiving aperture 26 in the extension of the central axis 21 of the ion beam 20 upstream of the plasma generation vessel 4.例文帳に追加

プラズマ生成容器４の上流側であってイオンビーム２０の中心軸２１の延長線上には、電子導入孔２６に向けて電子３４を発生させるものであって、引出し電極系１４内の最も低い電位の電極１６よりも低い電位に保たれる電子発生源２８が設けられている。 - 特許庁

The focusing device for a radiation from an optical source (2), in particular from a laser plasma source, comprises a collector mirror (1) for collecting light from the optical source to a second focal point under the condition of a virtual image or real image and is used, in particular, for a microlithography using EUV radiation, and a routing unit and a downstream beam structure in an illumination system.例文帳に追加

光源（２）、特にレーザープラズマ源からの放射線のための収束装置が、光源からの光を虚像もしくは実像の条件で第２の焦点に集める、特にＥＵＶ放射線を使用するマイクロリソグラフィのためのコレクターミラー（１）と、照明システムに、ルーティングユニットと、下流ビーム構造体とを有する。 - 特許庁