capacitance boxとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR CALIBRATING CAPACITANCE METER, CALIBRATING STANDARD CAPACITANCE BOX, METHOD FOR MEASURING ELECTROSTATIC CAPACITY, BOX FOR MEASURING CAPACITY AND CAPACITANCE METER例文帳に追加

容量計の校正方法、校正用標準容量ボックス、静電容量の測定方法、容量測定用ボックス及び容量計 - 特許庁

VARIABLE-CAPACITANCE CONDENSER AND IMPEDANCE MATCHING BOX EQUIPPED WITH VARIABLE-CAPACITANCE CONDENSER例文帳に追加

可変容量コンデンサ及びこの可変容量コンデンサを備えたインピーダンス整合器 - 特許庁

Furthermore, since the impurity doped region 11 is formed reaching the upper face of the box layer 2, the junction capacitance between source and drain regions 12 does not increase.例文帳に追加

しかも、不純物導入領域１１はＢＯＸ層２の上面に到達して形成されるため、ソース・ドレイン領域１２の接合容量が増加することもない。 - 特許庁

In the case of use, transferred image data are stored in the temporary area, thereby performing work similar to work in storing image data in the memory box for irreducibly minimum capacitance.例文帳に追加

使用の際には、転送済みの画像データをテンポラリ領域に格納することで必要最小限の容量でメモリボックス内に格納されているときと同様の作業が可能になる。 - 特許庁

A first matching box 3A and a second matching box 3B are connected in series between a shortwave transceiver 1 and an antenna 2, the second matching box 3B fixes inductance and a capacitance value to be lightened in weight and is installed near an antenna feeding point 21, and as the antenna 2, a sectoral multiple antenna is adopted to achieve an optimum antenna state in both transmission and reception.例文帳に追加

短波送受信機１とアンテナ２との中間に第１の整合器３Ａおよび第２の整合器３Ｂを直列に接続し、第２の整合器３Ｂはインダクタンス、キャパシタンス値を固定として軽量化しアンテナ給電点２１近傍に設置するとともに、アンテナ２には扇形多条形のものを採用して、送信、受信ともに最適なアンテナ状態を実現する。 - 特許庁

The filter device includes a metallic box body 11 and at least the two resonance elements 13 installed in an inner part 11a of the box body 11, and a coupling capacitance adjusting element 20 composed of a conductor 20a insulated from the box body 11 is disposed between at least the two resonance elements 13.例文帳に追加

本発明のフィルタ装置は、金属製の箱体１１と、この箱体１１の内部１１ａに設置された少なくとも２つの共振素子１３とを備え、前記少なくとも２つの共振素子１３の間に前記箱体１１と絶縁された導体２０ａからなる結合容量調整素子２０を配置したものである。 - 特許庁

In a plasma deposition device for depositing a sputtered target material on a substrate, capacitance in an impedance-matching box for an RF coil is varied during the deposition process in such a manner that heating of the RF coil and the substrate and the film deposition become more uniform according to "time-averaging" of the RF voltage distribution along the RF coil.例文帳に追加

スパッタされたターゲット材料を基板上に堆積させるためのプラズマ堆積装置において、ＲＦコイルのインピーダンス整合ボックス内のキャパシタンスを、堆積プロセス中に、ＲＦコイルと基板の加熱、及び薄膜の堆積が、ＲＦコイルに沿ったＲＦ電圧分布の「時間平均」によってより均一になるように、変化させる。 - 特許庁