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chs1とは 意味・読み方・使い方

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遺伝子名称シソーラスでの「chs1」の意味

chs1

fission_yeast遺伝子名chs1
同義語(エイリアス)Chitin synthase 1; SPAC13G6.12c; SPAC24B11.01c; chitin synthase I; Chitin-UDP acetyl-glucosaminyl transferase 1
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P30597
EntrezGeneのID---
その他のDBのIDGeneDB_SPombe:SPAC13G6.12c
human遺伝子名CHS1
同義語(エイリアス)Beige homolog; Lysosomal-trafficking regulator; CHS; LYST; lysosomal trafficking regulator; Chediak-Higashi syndrome 1
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:Q99698
EntrezGeneのIDEntrezGene:1130
その他のDBのIDHGNC:1968
human遺伝子名CHS1
同義語(エイリアス)VPS13B; DKFZp313I0811; COH1; Vacuolar protein sorting-associated protein 13B; Cohen syndrome protein 1; Cohen syndrome 1; KIAA0532; vacuolar protein sorting 13B (yeast)
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:Q7Z7G8
EntrezGeneのIDEntrezGene:157680
その他のDBのIDHGNC:2183
mouse遺伝子名Chs1
同義語(エイリアス)Bg; CHS1 homolog; Lyst; Beige protein; Lysosomal-trafficking regulator; lysosomal trafficking regulator; beige; D13Sfk13; bg
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P97412
EntrezGeneのIDEntrezGene:17101
その他のDBのIDMGI:107448
worm遺伝子名chs-1
同義語(エイリアス)CE39183; WP:CE39183; T25G3.2; T25G3.2.1; T25G3.2.2; CHitin Synthase
SWISS-PROTのID---
EntrezGeneのIDEntrezGene:172508
その他のDBのIDWormBase:WBGene00000496
yeast遺伝子名CHS1
同義語(エイリアス)N1404; Chitin synthase 1; YNL192W; chitin synthase 1; Chitin-UDP acetyl-glucosaminyl transferase 1; USA4
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P08004
EntrezGeneのIDEntrezGene:855529
その他のDBのIDSGD:S000005136

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
GeneDB_SPombe
サンガー研究所により運営されている分裂酵母の一種であるS. pombe遺伝子情報に関するデータベース
HGNC
HUGO遺伝子命名法委員会により運営されるヒト遺伝子に関するデータベース
MGI
様々なプロジェクトによる研究マウス遺伝的生物学的なデータを提供するデータベース
WormBase
欧米研究所大学により運営されている研究用の線虫生態遺伝子情報に関するデータベース
SGD
スタンフォード大学医学部運営されている出芽酵母の一種Saccharomyces cerevisiae生態遺伝子情報に関するデータベース

「chs1」を含む例文一覧

該当件数 : 1



例文

In a process in which dielectrics constituting the charge storage films CHS are formed on the bottom dielectric film BTM, the dielectric (the first film CHS1) brought into contact with a boundary with at least the bottom dielectric film BTM in the dielectrics is formed by using atomic-layer deposition(ALD).例文帳に追加

電荷蓄積膜CHSを構成する誘電体をボトム誘電体膜BTM上に形成する工程において、その誘電体のうち、少なくとも、ボトム誘電体膜BTMとの境界に接する誘電体(第1の膜CHS1)を原子層堆積(ALD)を用いて形成する。 - 特許庁

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