co-sputterとは 意味・読み方・使い方

To provide an Fe-Co based alloy sputtering target material which can stably sputter a soft magnetic film.例文帳に追加

軟磁性膜を安定してスパッタリング可能なＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁

To provide a luminant which is always formed in desired composition by co-sputter using a stable target material, a manufacturing method and a manufacturing apparatus for the same, and a light emitting element or apparatus.例文帳に追加

安定したターゲット材を用いた共スパッタによって、常に所望の組成に成膜される発光体、その製造方法及びその製造装置、並びに発光素子又は装置を提供すること。 - 特許庁

Two sputter cathodes, on which targets are stuck, are disposed in close vicinity to each other in a vacuum system in which reduced pressure atmosphere can be regulated, and the above targets are co-sputtered to concurrently deposit films having compositions containing the materials of the targets respectively onto a substrate.例文帳に追加

減圧した雰囲気が調整できる真空装置にターゲットを貼り付けた２つのスパッタリングカソードを近接設置し、前記ターゲットを同時にスパッタリングして、基体に前記ターゲットの材料を含む成分の被膜を同時に被覆する。 - 特許庁

A sputter target is comprised of cobalt (Co), greater than 0 and as much as 24 atomic percent chromium (Cr), greater than 0 and as much as 20 atomic percent platinum (Pt), greater than 0 and as much as 20 atomic percent boron (B), and greater than 0 and as much as 10 atomic percent gold (Au).例文帳に追加

スパッタターゲットは、コバルト(Ｃｏ)、０より多く２４原子％以下のクロム(Ｃｒ)、０より多く２０原子％以下の白金（Ｐｔ）、０より多く２０原子％以下のホウ素(Ｂ)及び０より多く１０原子％以下の金(Ａｕ)を含む。 - 特許庁