例文 (4件) |
co-sputterの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4件
To provide an Fe-Co based alloy sputtering target material which can stably sputter a soft magnetic film.例文帳に追加
軟磁性膜を安定してスパッタリング可能なFe−Co系合金スパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁
To provide a luminant which is always formed in desired composition by co-sputter using a stable target material, a manufacturing method and a manufacturing apparatus for the same, and a light emitting element or apparatus.例文帳に追加
安定したターゲット材を用いた共スパッタによって、常に所望の組成に成膜される発光体、その製造方法及びその製造装置、並びに発光素子又は装置を提供すること。 - 特許庁
Two sputter cathodes, on which targets are stuck, are disposed in close vicinity to each other in a vacuum system in which reduced pressure atmosphere can be regulated, and the above targets are co-sputtered to concurrently deposit films having compositions containing the materials of the targets respectively onto a substrate.例文帳に追加
減圧した雰囲気が調整できる真空装置にターゲットを貼り付けた2つのスパッタリングカソードを近接設置し、前記ターゲットを同時にスパッタリングして、基体に前記ターゲットの材料を含む成分の被膜を同時に被覆する。 - 特許庁
A sputter target is comprised of cobalt (Co), greater than 0 and as much as 24 atomic percent chromium (Cr), greater than 0 and as much as 20 atomic percent platinum (Pt), greater than 0 and as much as 20 atomic percent boron (B), and greater than 0 and as much as 10 atomic percent gold (Au).例文帳に追加
スパッタターゲットは、コバルト(Co)、0より多く24原子%以下のクロム(Cr)、0より多く20原子%以下の白金(Pt)、0より多く20原子%以下のホウ素(B)及び0より多く10原子%以下の金(Au)を含む。 - 特許庁
例文 (4件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |