crystal towerとは 意味・読み方・使い方

To maintain stable and efficient treatment over a long period of time by making the particle size of the MAP particles in a reaction tower steady without supplying a seed crystal from the outside in a dephosphorization apparatus removing phosphorus in phosphorus-containing water introduced into the reaction tower as a crystal of MAP.例文帳に追加

反応塔内に導入されたリン含有水中のリンをＭＡＰの結晶として除去する脱リン装置において、系外から種晶を供給することなく、反応塔内のＭＡＰ粒子の粒径を定常化して長期に亘り安定かつ効率的な処理を継続する。 - 特許庁

To provide a cooling structure for a body of a crystal-growing furnace capable of reducing costs relevant to facilities such as a cooler, a cooling tower, or a washer and their maintenance without requiring a large quantity of water for cooling, in regard to a cooling structure for a body of a crystal-growing furnace.例文帳に追加

結晶成長炉本体用の冷却構造に関し、冷却に大量の純水を必要とせず、クーラ、冷却塔、清浄機などの設備およびその保守に関連するコストを低減できる結晶成長炉本体用の冷却構造を提供する。 - 特許庁

The apparatus for recovering phosphorus possesses a reverse osmosis membrane device in a front stage and/or post stage of the granulation tower for recovering phosphate ion in water to be treated as the crystal of magnesium ammonium phosphate.例文帳に追加

被処理水中のリン酸イオンをリン酸マグネシウムアンモニウムの結晶として回収する造粒塔の前段および／または後段に逆浸透膜装置を具備することを特徴とするリンの回収装置。 - 特許庁

A tower type of cathode 17 is formed inside of the lower dioxide silicon film 16A, the upper dioxide silicon film 18A, and the drawer electrode 19A, and a leading end of the cathode 17 has a steep portion of 2 nm radius formed by a crystal anisotropy etching process and thermal oxide of silicon process.例文帳に追加

下部酸化シリコン膜１６Ａ、上部酸化シリコン膜１８Ａ及び引き出し電極１９Ａの開口部の内部には、タワー形状の陰極１７が形成されており、該陰極１７の先端部は結晶異方性エッチングとシリコンの熱酸化プロセスとによって形成された半径２ｎｍ以下の急峻な形状を有している。 - 特許庁

To provide a space-saving apparatus for removing a photoresist in which ozonized water of a high concentration is rapidly and precisely produced, a photoresist unnecessitated in a photolithography step in the production of a semiconductor, a liquid crystal or the like can be removed with good production efficiency and an aerator and a vapor-liquid separation tower are unnecessary.例文帳に追加

半導体や液晶等の製造におけるフォトリソグラフィー工程で、不要になったフォトレジストを除去する際、迅速に精度良く高濃度のオゾン水を生成させて、生産効率良くフォトレジストを除去出来、且つ、ばっ気設備や気液分離塔は必要がない、小型設備で可能なフォトレジスト除去装置を提供するものである。 - 特許庁