drift chamber gasとは 意味・読み方・使い方

The pulse-like ion group introduced into the drift chamber 21 moves with a temporal delay by being influenced by molecules of a drift gas introduced from a drift gas introduction tube 47 and reaches a collection electrode 45 along a nearly uniform electric field formed in the drift chamber 21.例文帳に追加

ドリフト室２１に導入されたパルス状のイオン群は、ドリフトガス導入管４７より導入されたドリフトガスの分子の影響を受けることで時間的遅れを持って移動し、ドリフト室２１内に形成されたほぼ均一の電界に沿って集電極４５に到達する。 - 特許庁

The small drops are mixed with a carrier gas (74) in a mixing chamber (54) surcumscribing a target material room (66), and the mixture of the small drops and the carrier gas is put into a drift tube (56) from the mixing chamber.例文帳に追加

小滴は標的材料室（６６）を取り囲む混合室（５４）内でキャリヤガス（７４）と混合され、小滴とキャリヤガスとの混合物は混合室からドリフトチューブ（５６）へ入る。 - 特許庁

The air is spread along a wall face 17b directed to the side of a combustion chamber 18 of the drift cylindrical body 17 in the radial direction and made easy to mix with sprayed fuel, thus suppressing the temperature rise of the drift cylindrical body 17 and effectively preventing the oxidation resulting from the exposure of the wall face 17b directly to a high temperature gas mass.例文帳に追加

空気は、偏流筒体１７の燃焼室１８側に向いた壁面１７ｂに沿って半径方向に広がり、燃料噴霧と混合しやすくなり、偏流筒体１７の温度上昇を抑止すると共に、壁面１７ｂが高温ガス塊との直接曝露に起因した酸化防止にも効果的である。 - 特許庁

To obtain a two-chamber type wet exhaust gas desulfurization equipment capable of preventing the lowering of desulfurization capacity by suppressing a gas drift in a descending flow region without increasing the power of a desulfurization fan, high in reliability and capable of being operated stably.例文帳に追加

脱硫ファン動力を増加させることなく、下降流領域でのガス偏流を抑制することで脱硫性能の低下を防止し、信頼性が高く、安定した運転が可能な二室型の湿式排煙脱硫装置を得ること。 - 特許庁

This closed electron drift plasma accelerator comprises an annular ionization chamber 2, an acceleration chamber 3 on the same axis as the ionization chamber 2, an annular anode 7, a hollow cathode 8, a first DC voltage source 82, an annular gas manifold 11, a magnetic circuit, and magnetic field generators.例文帳に追加

閉じた電子ドリフトプラズマ加速器は、環状イオン化チャンバ(2)、イオン化チャンバ(2)と同軸上の加速チャンバ(3)、環状アノード(7)、中空カソード(8)、第1直流電圧源(82)、環状ガスマニフォールド(11)、磁気回路、および磁界発生器を含んでいる。 - 特許庁

When an organic layer is formed, an organic material in an organic raw material vessel 133 is heated and vaporized by a raw material heater 134, is mixed with a carrier gas from a carrier gas bomb 131, is discharged from an organic gas nozzle 138 into a chamber 111, and drift onto the surface of the substrate 200 that is directed to a gas nozzle.例文帳に追加

有機層形成時には、有機原料容器１３３の有機材料が原料加熱ヒーター１３４により加熱気化され、キャリアガスボンベ１３１からのキャリアガスと混合され、有機ガスノズル１３８からチャンバー１１１内に放出され、ガスノズル方向に向けられた基板２００の表面に流される。 - 特許庁