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drying blockとは 意味・読み方・使い方
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「drying block」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 99件
HEAT INSULATION BLOCK AND METHOD FOR DRYING HEAT INSULATION BLOCK例文帳に追加
断熱ブロック及び断熱ブロックの乾燥方法 - 特許庁
The drying/developing processing block 12 includes a drying section 95.例文帳に追加
乾燥／現像処理ブロック１２は乾燥処理部９５を備える。 - 特許庁
The cleaning/drying block 15 has a cleaning/drying section 80.例文帳に追加
洗浄／乾燥処理ブロック１５は、洗浄／乾燥処理部８０を有する。 - 特許庁
When the TiO2 hole block layer is produced, the TiO2 hole block layer is made amorphous, by drying the TiO2 hole block layer in the air.例文帳に追加
TiO2ホールブロック層作製の際、大気中で乾燥させることにより、TiO2ホールブロック層をアモルファス化する。 - 特許庁
The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a development/cleaning/drying block 12, a cleaning/drying block 13, and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像／洗浄／乾燥処理ブロック１２、洗浄／乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を含む。 - 特許庁
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「drying block」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 99件
DRYING AND AGEING TREATMENT APPARATUS OF BLOCK, DRYING AND AGEING TREATMENT METHOD AND COVER MEMBER CIRCULATING DEVICE例文帳に追加
ブロックの乾燥養生処理装置、乾燥養生処理方法及び被覆部材循環装置 - 特許庁
An interface block 14 is constituted of a washing and drying processing block 14A and a carry-in/carry-out block 14B.例文帳に追加
洗浄乾燥処理ブロック１４Ａおよび搬入搬出ブロック１４Ｂにより、インターフェイスブロック１４が構成される。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a drying/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁
The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加
基板処理装置５００は、インデクサブロック８、端面洗浄処理ブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁
The cleaning/drying block 13 has a substrate reversal section 150a and a second cleaning/drying section 630.例文帳に追加
洗浄／乾燥処理ブロック１３は、基板反転部１５０ａおよび第２の洗浄／乾燥処理部６３０を有する。 - 特許庁
The washing and drying processing block 14A includes washing and drying processing sections 161, 162 and a carrying section 163.例文帳に追加
洗浄乾燥処理ブロック１４Ａは、洗浄乾燥処理部１６１，１６２および搬送部１６３を含む。 - 特許庁
The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加
基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁
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