「drying block」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DRYING AND AGEING TREATMENT APPARATUS OF BLOCK, DRYING AND AGEING TREATMENT METHOD AND COVER MEMBER CIRCULATING DEVICE例文帳に追加

ブロックの乾燥養生処理装置、乾燥養生処理方法及び被覆部材循環装置 - 特許庁

To include en block polishing function, cleaning function and drying function in one machine.例文帳に追加

研磨、洗浄および乾燥機能を１台の機械で一体化すること。 - 特許庁

When the TiO2 hole block layer is produced, the TiO2 hole block layer is made amorphous, by drying the TiO2 hole block layer in the air.例文帳に追加

TiO2ホールブロック層作製の際、大気中で乾燥させることにより、TiO2ホールブロック層をアモルファス化する。 - 特許庁

An interface block 14 is constituted of a washing and drying processing block 14A and a carry-in/carry-out block 14B.例文帳に追加

洗浄乾燥処理ブロック１４Ａおよび搬入搬出ブロック１４Ｂにより、インターフェイスブロック１４が構成される。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a development/cleaning/drying block 12, a cleaning/drying block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像／洗浄／乾燥処理ブロック１２、洗浄／乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を含む。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a drying/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 is juxtaposed with an indexer block 10, a treatment block 11 for resist films, a cleaning/drying treatment block 12, a development processing block 13, and an interface block 14 in this order.例文帳に追加

基板処理装置５００においては、インデクサブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、洗浄／乾燥処理ブロック１２、現像処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４が、この順で並設される。 - 特許庁

The washing and drying processing block 14A includes washing and drying processing sections 161, 162 and a carrying section 163.例文帳に追加

洗浄乾燥処理ブロック１４Ａは、洗浄乾燥処理部１６１，１６２および搬送部１６３を含む。 - 特許庁

The interface block 13 includes a drying section 95 having two drying units, and a carrying mechanism IFR for interface.例文帳に追加

インターフェースブロック１３は２つの乾燥処理ユニットを含む乾燥処理部９５およびインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。 - 特許庁

The cleaning/drying block 13 has a substrate reversal section 150a and a second cleaning/drying section 630.例文帳に追加

洗浄／乾燥処理ブロック１３は、基板反転部１５０ａおよび第２の洗浄／乾燥処理部６３０を有する。 - 特許庁

The interface block 15 includes first and second cleaning/drying treatment units SD1 and SD2.例文帳に追加

インターフェースブロック１５は、第１および第２の洗浄／乾燥処理ユニットＳＤ１，ＳＤ２を含む。 - 特許庁

To provide a saucer for protecting a flowerpot from drying, and an unglazed stand or an unglazed block put in the saucer.例文帳に追加

植木鉢を乾燥から守る受け皿とその中に置く素焼きの台またはブロックを提供する。 - 特許庁

In the cleaning/drying processing block 16, a substrate W subjected to exposure processing is dried.例文帳に追加

洗浄／乾燥処理ブロック１６において露光処理後の基板Ｗの乾燥処理が行われる。 - 特許庁

In the cleaning/drying processing block 16, a substrate W is dried before it is subjected to exposure processing.例文帳に追加

洗浄／乾燥処理ブロック１６において露光処理前の基板Ｗの洗浄処理が行われる。 - 特許庁

HOUSEHOLD APPLIANCE, NAMELY MACHINE FOR WASHING AND/OR DRYING LAUNDRY, WITH A DOOR BLOCK/RELEASE DEVICE THAT CAN BE ACTUATED ELECTRICALLY例文帳に追加

家庭電化製品、即ち、電気駆動可能なドアのブロック／リリース装置を有する洗濯乾燥機 - 特許庁

To provide a heat insulation block capable of drying in a comparatively short time without increasing cost.例文帳に追加

コストをかけず、比較的短時間で乾燥させることを可能とする断熱ブロックを提供すること。 - 特許庁

The cleaner/dryer 400 comprises a cleaning/drying processing block 16, and a second interface block 17.例文帳に追加

洗浄／乾燥装置４００は、洗浄／乾燥処理ブロック１６および第２のインターフェースブロック１７を備える。 - 特許庁

The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック８、端面洗浄処理ブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The drying/baking process has: a first process of selectively drying a specific pixel part among the plurality of pixel parts; and a second process of drying and baking the plurality of pixel parts in block after the first process.例文帳に追加

乾燥・焼成工程は、複数の画素部のうち、特定の画素部を選択的に乾燥する第１工程と、第１工程後に、複数の画素部を一括して乾燥・焼成する第２工程とを有する。 - 特許庁

To perform drying while eliminating dispersion and unevenness of moisture content in a grain drying machine for drying grain while measuring a moisture value every one block of grain divided into the plurality of blocks.例文帳に追加

複数に分割したブロック穀粒毎に水分値を測定しながら乾燥する穀粒乾燥機において、水分バラツキ及び水分ムラを解消しながら乾燥する。 - 特許庁

In a conveyance process, post-exposure baking (PEB) is performed to the substrate W which is subjected to cleaning and drying treatment in a cleaning/drying treatment unit at a cleaning/drying treatment section 80, at a heat treatment section 151 for post-exposure baking in a cleaning/drying treatment block 15.例文帳に追加

洗浄／乾燥処理部８０の洗浄／乾燥処理ユニットで洗浄および乾燥処理が施された基板Ｗが、洗浄／乾燥処理ブロック１５の露光後ベーク用熱処理部１５１において露光後ベーク（ＰＥＢ）を施されるまでの搬送工程は以下の通りである。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for an antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a development processing block 12, a processing block 13 for a resist cover film, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying processing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises: an indexer block 9; a processing block 10 for an antireflection film; a processing block 11 for a resist film; a development processing block 12; a processing block 13 for a resist cover film; a resist cover film removing block 14; a cleaning/drying processing block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 comprises an indexer block 9, a treatment block 10 for antireflection films, a treatment block 11 for resist films, a development processing block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying treatment block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 includes an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a resist cover film removal block 14; a cleaning/drying treatment block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a processing block 12 for resist cover films, a developing block 13, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

To provide a concrete block and a printing method for the concrete block, which enable inkjet printing to be applied onto the concrete block without providing an ink receptive layer in order to eliminate a work process required for primary coating and the drying thereof.例文帳に追加

下塗り塗装とその乾燥にかかる作業工程を省略するために、インク受理層を設けることなくインクジェット印刷を施すことができるコンクリートブロック及びコンクリートブロックの印刷方法を提供する。 - 特許庁

The block isocyanate with its bond dissociation temperature not less than the temperature of drying by heating after adhesion of the treatment liquid to the cloth is used.例文帳に追加

ブロックイソシアネートは、その結合解離温度が上記処理液を布に付着させた後の加熱乾燥温度以上のものを用いる。 - 特許庁

The drying of the cake is accelerated by bringing the cake into contact with the cake block holding member 71 warmed by the hot water.例文帳に追加

温水により温められたケーキブロック保持部材７１にケーキを触れさせてケーキの乾燥を促進させる。 - 特許庁

A plurality of measuring ports 12a, 90a and 95a and a plurality of nitrogen supply ports 12b, 90b and 95b are formed to the drying/developing treating block 12.例文帳に追加

乾燥／現像処理ブロック１２には、複数の測定ポート１２ａ，９０ａ，９５ａ、複数の窒素供給口１２ｂ，９０ｂ，９５ｂが設けられる。 - 特許庁

To shorten a period of drying a reinforced pearlite concrete block in a double shell low temperature tank bottom part to shorten construction term of the whole tank.例文帳に追加

二重殻低温タンク底部の鉄筋パーライトコンクリートブロックの乾燥期間を短縮してタンク全体の施工期間の短縮化を図る。 - 特許庁

In a drying/developing treating block 12 for the substrate treatment apparatus 500, a substrate W after an exposure treatment is dried and treated.例文帳に追加

基板処理装置５００の乾燥／現像処理ブロック１２においては、露光処理後の基板Ｗの乾燥処理が行われる。 - 特許庁

To provide a veranda deck capable of preventing the beauties and a walking sense from being impaired even if a wooden block is not processed in a drying process.例文帳に追加

木製ブロックに乾燥工程を行わなくても美観、歩行感を損なわなれないベランダデッキを作るの力泪的である。 - 特許庁

A plurality of drying levers 5 are horizontally, radially and developably connected to the block 2 by a fan-shaped, circular arc fixing pin.例文帳に追加

扇形ブロック２には、複数の物干しレバ−５が扇形円弧固定ピンで水平放射状に展開可能に結合されている。 - 特許庁

This bathroom ventilating drying heater 1A includes the terminal block 2A rotatably supported on a support shaft 22, on a top face section 13 of a main body section 10A.例文帳に追加

浴室換気乾燥暖房機１Ａは、本体部１０Ａの上面部１３に、支点軸２２を軸に回転可能に支持される端子台２Ａを備える。 - 特許庁

To provide a drying process cable of inhibiting a surface crack of a cored block in a simplified operation.例文帳に追加

簡素化された工程で、心持ち角材の表面割れを抑制することができる乾燥方法を提供する。 - 特許庁

A blowing part 25 of a drying block 20 comprises nozzles 35-37, a blowing fan 39, and a perforated straightening plate 40 or the like.例文帳に追加

乾燥ブロック２０の吹出部２５は、ノズル３５〜３７，吹出ファン３９、有孔整流板４０などからなる。 - 特許庁

A bathroom heating ventilating drying device 1A has a terminal block 4 on one side face 30 in the longitudinal direction of a body case 3.例文帳に追加

浴室暖房換気乾燥装置１Ａは、本体ケース３の長辺方向の一方の側面３０に端子台４を備える。 - 特許庁

This block body for catching a natural marine fish is obtained by using a marine organism waste as a raw material, drying a putrefactive component to give a main raw material and molding the main raw material under pressure into a fixed shape.例文帳に追加

海洋生物の廃棄物を原料とし、腐敗性成分を乾燥処理して主原料となし所定形状に加圧成形する。 - 特許庁

This heating/drying device is provided with a heater block 3, which is formed in a prism-like shape and supported rotatably about its longitudinal center axis.例文帳に追加

多角柱状に形成されると共に、その長手方向中心軸を回転軸として回転可能に支持されたヒータ・ブロック３を設ける。 - 特許庁

To provide a printing varnish which, even if applied on a printed oxidative polymerization type ink film before drying, can form the surface film that does not block the ink film from drying.例文帳に追加

印刷された酸化重合型インキ塗膜が乾燥する前に、該インキ塗膜上に印刷用ニスを塗布して表面皮膜を形成しても、下地となるインキ塗膜の乾燥を阻害しない印刷用ニスを提供すること。 - 特許庁

An edge cleaning unit in a cleaning/drying processing part 80 of the cleaning/drying processing block 15 cleans the edge of the substrate W before exposure processing.例文帳に追加

洗浄／乾燥処理ブロック１５の洗浄／乾燥処理部８０における端部洗浄ユニットにおいては、露光処理前の基板Ｗの端部が洗浄される。 - 特許庁

In an edge cleaning unit at a cleaning/drying treatment section 80 of the cleaning/drying treatment block 15, the edge of the substrate W is cleaned before exposure processing.例文帳に追加

洗浄／乾燥処理ブロック１５の洗浄／乾燥処理部８０における端部洗浄ユニットにおいては、露光処理前の基板Ｗの端部が洗浄される。 - 特許庁