ecr sourceとは 意味・読み方・使い方

GYRAC ACCELERATING ELECTRON TYPE ECR ION SOURCE AND MULTIVALENT ION PRODUCING METHOD例文帳に追加

ジャイラック加速電子型ＥＣＲイオン源及び多価イオン生成方法 - 特許庁

The power source 174 and the magnetic apparatus 170 collaborate each other in giving an electron cyclotron resonance(ECR) condition at lease along a part of the passage 139.例文帳に追加

パワー源174と磁気装置170は、協働して通路139の少なくとも一部分に沿って電子サイクロトロン(ECR)の共振状態を与える。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MIRROR FIELD FOR CONFINING PLASMA USED IN ECR ION SOURCE例文帳に追加

ＥＣＲイオン源に用いられるプラズマ閉じ込め用のミラー磁場発生装置及び方法 - 特許庁

To provide an ECR plasma source capable of forming long, uniform and stable plasma.例文帳に追加

細長くて均一かつ安定なプラズマを形成することができる、ＥＣＲプラズマ源の提供。 - 特許庁

The magnetic field strength is continuously kept at a constant value or higher (nonzero) from a cyclotron 50 to an ECR ion source (ion source) 20.例文帳に追加

サイクロトロン５０からＥＣＲイオン源（イオン源）２０までの磁場の強度が連続的に一定値以上に保たれている（零とならない）点である。 - 特許庁

As a result, the manufacturing costs are reduced to the specification change of the ECR ion source such as size increase of the plasma chamber.例文帳に追加

この結果、プラズマチャンバーの大型化などＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、製造コストを低減させることができる。 - 特許庁

Harmonic ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma is generated by introducing plasma source gas and microwave and applying the mirror magnetic field to perform the sputtering.例文帳に追加

プラズマソースガスを導入するとともに、マイクロ波導入とミラー磁場印加により、ハーモニックＥＣＲプラズマを発生させてスパッタリングを行なう。 - 特許庁

The ECR sputtering apparatus 1 comprises: an ECR sputtering source 2 which generates the plasma originating from the sputter target by using an electron cyclotron resonance mechanism and irradiates a substrate 10 with the generated plasma; and an ion beam source 3 which ionizes a supplied gas like the reactive gas and irradiates the substrate 10 with the ionized gas.例文帳に追加

ＥＣＲスパッタ装置１は、電子サイクロトロン共鳴によってスパッタターゲットのプラズマを発生し、発生したプラズマを基板１０に照射するＥＣＲスパッタ源２と、反応性ガス等の供給ガスをイオン化し、イオン化したガスを基板１０に照射するイオンビーム源３を備える。 - 特許庁