electron cyclotron resonance plasma depositionとは 意味・読み方・使い方

VAPOR DEPOSITION METHOD OF ELECTRON EMITTING CARBON FILM BY ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA例文帳に追加

電子サイクロトロン共鳴プラズマによる電子放出カ—ボンフィルムの蒸着方法 - 特許庁

ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA DEPOSITION PROCESS, DEVICE FOR SINGLE-WALL CARBON NANOTUBE, AND NANOTUBE PREPARED BY USING THE SAME例文帳に追加

電子サイクロトロン共鳴プラズマ成膜プロセスおよび一重壁カーボンナノチューブのための装置ならびにそれによって得られたナノチューブ - 特許庁

To exclude the generation of hydrogen in a film deposition chamber caused by hydrocarbon used as a film deposition raw material in the conventional ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma film deposition system and its intrusion into a DLC (Diamond Like Carbon) film, and to improve the film quality of the DLC film by an ECR plasma film deposition process.例文帳に追加

従来のＥＣＲプラズマ成膜装置における、成膜原材料として用いる炭化水素に起因する成膜室内における水素の発生およびそのＤＬＣ膜への混入を排除し、ＥＣＲプラズマ成膜法によるＤＬＣ膜の膜質を改善する。 - 特許庁

To deposit a hard carbon film at a high film deposition rate and also at a low temperature in a method in which Ar plasma by electron cyclotron resonance is generated in a plasma generating chamber 4, the Ar plasma is applied on a substrate 9 arranged in a vacuum chamber 7, simultaneously, gaseous hydrocarbon is fed to the vacuum chamber 7, and a hard carbon film is deposited on the substrate 9.例文帳に追加

プラズマ発生室４に電子サイクロトロン共鳴によるＡｒプラズマを発生させ、該Ａｒプラズマを真空チャンバー７内に配置した基板９に照射すると同時に、真空チャンバー７に炭化水素ガスを供給して、基板９上に硬質炭素被膜を形成する方法において、高い成膜速度でかつ低温で硬質炭素被膜を形成する。 - 特許庁