free vacuum formingとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for forming copper coated with metal by a vacuum deposition method free from the need of a severe pretreatment process on a large scale.例文帳に追加

大規模で厳しい前処理プロセスを必要としない真空蒸着方法によって、金属で被覆された銅を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a rigid vinyl chloride resin sheet, for a vacuum forming machine, which has a wide range of forming conditions for PTP packaging and is free from the generation of creases and a forming failure with minimum curl occurrence.例文帳に追加

ＰＴＰ包装用として、成形条件範囲が広く、シワが発生せず、成形不良の発生しない、カールが少ない真空成形機用硬質塩化ビニール樹脂シートを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a foamed multi-layer polyolefin sheet which is free from a residual organic solvent and bubble breakage, high in expansion ratio, excellent in surface smoothness and secondary processability such as vacuum forming.例文帳に追加

有機溶剤の残留もなく、しかも気泡の破壊もなく表面の平滑性、発泡倍率が高くて真空成形性等の２次加工性にも優れた多層ポリオレフィン発泡シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

The light source includes a vacuum chamber 12 retained in a given vacuum environment, a gas jet device 14 for forming a hypersonic steady gas jet 1 of a target material in the vacuum chamber in free recovery, and a laser device 16 for crossing a laser beam 3 of the same frequency to a given condensing point 2 in the hypersonic steady gas jet for condensing and irradiation.例文帳に追加

所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェット内の所定の集光点２に同一周波数のレーザー光３を交差させて集光し照射するレーザー装置１６とを備える。 - 特許庁

To provide a water-based matting and surface-treating agent for a thermoplastic polyolefin sheet for vacuum molding, containing water as a main solvent entirely or almost free from an organic solvent, and forming a film having excellent adhesiveness to a polyolefin sheet such as a TPO, excellent vacuum moldability and excellent abrasion resistance, and having excellent matte effects even after the vacuum molding.例文帳に追加

有機溶剤を全く含まない、あるいはほとんど含まない水を主溶媒としたＴＰＯなどのポリオレフィンシートとの接着性に優れ、且つ真空成形性、耐磨耗性に優れ、真空成形後にも優れた艶消性を有する皮膜を形成する真空成形用熱可塑性ポリオレフィンシート用水性艶消表面処理剤を提供すること。 - 特許庁

Silicon particulates are produced by heating a silicon evaporation source 15, transported, and jetted into a vacuum chamber 30 while carried with an air current of a supersonic free jet J to be physically vapor-deposited on a substrate 33 arranged in the vacuum chamber 30, thereby forming the polycrystalline silicon film of the silicon particulates.例文帳に追加

シリコン蒸発源１５の加熱によりシリコン微粒子を生成し、次に、シリコン微粒子を移送し、超音速フリージェットＪの気流に乗せて真空チャンバー３０中に噴出して、真空チャンバー３０中に配置された基板３３上に物理蒸着させ、シリコン微粒子からなる多結晶シリコン膜を形成する。 - 特許庁

The device includes a process of forming plasma in a vacuum chamber by applying electric power to an electrode 12a in the chamber 10, and a process of bringing one or more ions, atoms, or free radicals of the plasma in contact with the surface 24 of the substrate 22.例文帳に追加

チャンバー１０内の電極１２ａに電力を加えて、プラズマを真空チャンバー内に生成する工程、および基体２２の表面２４にプラズマのイオン、原子またはフリーラジカルの１以上と接触させる工程を含む。 - 特許庁