ion plasmasとは 意味・読み方・使い方

The probabile cycrotron ion filter for separating ions in many kinds of plasmas uses an electric field (E) crossing a magnetic field (B) according to mass.例文帳に追加

多種のプラズマ中のイオンを分離する確率的イオンフィルタは、質量に応じ、磁界（Ｂ）と交差した電界（Ｅ）を用いる。 - 特許庁

To provide an ion accelerator, simplified substantially, which efficiently pulls out all ions contained in acceleratable plasmas generated, and moreover, is capable of accelerating ion beams of long pulse width as well.例文帳に追加

大幅に単純化し、発生した加速可能なプラズマに含まれるイオンの総てを効率良く引き出し、なおかつ、長いパルス幅のイオンビームも加速が可能となるイオン加速装置を提供する。 - 特許庁

A plasma generating target 12 generating plasmas by irradiating a laser L for plasma generation, a vacuum container 16 pulling out ions from the plasmas generated from the plasma generating target 12, directly attached to an ton entrance 38 of an ion linear accelerator 30 and the ion linear accelerator 30 are connected in series, ions are made to come directly into the ion linear accelerator 30 using a dispersion speed of the plasmas.例文帳に追加

プラズマ発生用レーザーＬを照射してプラズマを発生させるプラズマ発生ターゲット１２と、プラズマ発生ターゲット１２から発生したプラズマよりイオンを引き出すとともに、イオン線形加速器３０のイオン入射口３８に、直接、取り付けられる真空容器１６と、イオン線形加速器３０とが直列に接続され、プラズマの拡散速度を利用して、イオン線形加速器３０に、直接、イオンを入射するように構成した。 - 特許庁

To provide a probabilistic cycrotron ion filter capable of selectively isolating and separating ions having specified range of mass numbers from many kinds of plasmas.例文帳に追加

あらかじめ定められた範囲内にある質量数をもつイオンを多種のプラズマの中から選択的に隔離および分離することが可能な確率的サイクロトロンイオンフィルタを提供する。 - 特許庁

This device is provided with a chamber 100 for introducing a wafer, radical source 102 capable of supplying radicals into the chamber 100, beam source 104 capable of supplying ion beams or plasmas into the chamber 100, wafer stage 106 capable of supporting and fixing the wafer led into the chamber 100 and neutralizer 108 capable of neutralizing electric charges inside the chamber 100 ionized by the ion beams, plasmas or radicals.例文帳に追加

ウエハが導入されるチャンバ１００と、チャンバ１００内にラジカルを供給できるラジカルソース１０２と、チャンバ１００内にイオンビームまたはプラズマを供給できるビームソース１０４と、チャンバ１００内に導入されるウエハを支持して固定できるウエハステージ１０６及び前記イオンビーム、プラズマまたはラジカルによりイオン化されたチャンバ１００内の電荷を中和できる中和器１０８を含む。 - 特許庁

To provide a plasma generator capable of generating lengthy line plasmas with uniformity and a high density; and to provide a film forming device capable of forming film on a large area substrate, an etching device, a surface treatment device, and an ion implantation device, by utilizing the above plasma generator.例文帳に追加

均一で高密度な長尺のライン状プラズマを生成することが可能であるプラズマ発生装置、及びこのプラズマ発生装置を利用した大面積基板への成膜が可能である成膜装置、並びにエッチング装置、表面処理装置、イオン注入装置を提供すること。 - 特許庁