laser CVDとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM BY LASER CVD, AND GAS WINDOW SUITABLE FOR THE METHOD例文帳に追加

レーザＣＶＤによる薄膜形成方法、及び同方法に好適なガスウィンドウ - 特許庁

Or the crack can be repaired by forming a metallic film on a part where the crack occurs by a laser CVD method and irradiating with laser light.例文帳に追加

また、クラックが生じた部分にレーザーＣＶＤ法により修復用金属膜を形成し、レーザー光を照射してクラックを修復してもよい。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for laser beam machining, capable of reducing machining time while maintaining quality of machining by a laser CVD method.例文帳に追加

レーザＣＶＤ法による加工品質を保ちつつ、加工時間を短縮することができるレーザ加工方法及装置を提供すること。 - 特許庁

In the laser beam machining apparatus 101 for performing the laser CVD process, an air heater 165 is used for sending hot air for heating the vicinity of the portion of a substrate 131 to be processed on which a thin film is deposited, through a gas window 161.例文帳に追加

レーザCVD加工を行うレーザ加工装置１０１において、エアヒータ１６５は、ガスウインドウ１６１を介して、基板１３１に薄膜を形成する加工部分近傍を加熱するための熱風を加工部分近傍に送る。 - 特許庁

The contact holes 233 and 235 for line breaking repair are filled with laser CVD films and the two contact holes 233 and 235 on the protection film are connected by the laser CVD film 231.例文帳に追加

断線修復用コンタクトホール２３３、２３５のそれぞれをレーザＣＶＤ膜で埋めるとともに、保護膜上で２つの断線修復用コンタクトホール２３３、２３５をレーザＣＶＤ膜２３１で接続する。 - 特許庁

To prevent a film formation from fine particles produced in a laser CVD as a CVD nucleus and the film edge from swelling outside the laser irradiation pattern in a conventional correction method of fine clear defect.例文帳に追加

従来び白欠陥の修正方法では、レーザＣＶＤ時に生成した微粒子がＣＶＤの核となり膜が形成され、レーザ光の照射形状の外側に膜のエッジが膨らんでしまう。 - 特許庁

The method for producing a thin film is the one by a laser CVD method in which laser beam 13 is introduced into a space above a substrate 11 at the inside of a reaction vessel 2 from the outside of the reaction vessel 2 in a laser CVD device 1 to form a thin film on the substrate 11.例文帳に追加

薄膜の製造方法は、レーザーＣＶＤ装置１の反応容器２外部より反応容器２内部の基板１１上の空間にレーザー光１３を導入して基板１１上に薄膜を形成するレーザーＣＶＤ法による薄膜の製造方法である。 - 特許庁

The CVD silicon film 150 is annealed by an excimer laser beam and formed into a crystalline silicon film 151.例文帳に追加

ＣＶＤシリコン膜１５０をエキシマレーザによりアニールして結晶性シリコン膜１５１を形成する。 - 特許庁