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機械工学英和和英辞典での「maximum waviness」の意味

maximum waviness


「maximum waviness」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 9



例文

The value of waviness in the length direction of the rod material part 1 of the core bar 3 is set to 6 μm or less in WCM (filterable maximum waviness).例文帳に追加

芯金3の丸棒素材部分1の長さ方向うねりの値を、WCM(ろ波最大うねり)で6μm以下とする。 - 特許庁

The substrate for an information recording medium is characterized in that a cycle of the microscopic waviness falls within 2 μm to 4 mm, wa of the substrate main surface is 5 nm or less and Rmax is 12 nm or less, where a maximum height of this microscopic waviness is wa (95% PV value) and a maximum height measured by an atomic force microscope is Rmax.例文帳に追加

情報記録媒体用基板は、微小うねりの周期が2μm〜4mmであって、この微小うねりの最大高さをwa(95%PV値)とし、原子間力顕微鏡によって測定した最大高さをRmaxとしたとき、該基板主表面のwaが5nm以下、Rmaxが12nm以下であることを特徴とする。 - 特許庁

This substrate for information recording medium is characterized in that the period of the microscopic waviness is in 2 μm to 4 mm, wa of the substrate main surface is 5 nm or less and Rmax is 12 nm or less, where a maximum height of this microscopic waviness is wa (95% peak value) and a maximum height measured by an atomic force microscope is Rmax.例文帳に追加

情報記録媒体用基板は、微小うねりの周期が2μm〜4mmであって、この微小うねりの最大高さをwa(95%PV値)とし、原子間力顕微鏡によって測定した最大高さをRmaxとしたとき、該基板主表面のwaが5nm以下、Rmaxが12nm以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The oxide single crystal wafer is characterized in that TTV on the surface of the wafer is 2.5 μm or less and the maximum amplitude of the waviness of a wavelength having 0.8-15 mm is 1.2 μm or less.例文帳に追加

ウエーハ表面のTTVが2.5μm以下であって、かつ波長0.8mm〜15mmのうねりの最大振幅が1.2μm以下であることを特徴とする酸化物単結晶ウエーハ。 - 特許庁

Irregularities set so that filtering maximum waviness value (W cm) may be within 0.8 to 10.0 are formed on the inner peripheral surface of the endless fixing belt for thermally fixing a toner image formed on recording materials.例文帳に追加

記録材上に形成されたトナー像を加熱定着するための無端状の定着ベルトにおいて、内周面にろ波最大うねり値(Wcm)が0.8〜10.0の範囲の凹凸が形成されたこと。 - 特許庁

The period of micro waviness of this substrate for an information recording medium is 2 μm to 4 mm, and the main surface of the substrate has a wa of 5 nm or less and an Rmax of 12 nm or less, where wa (95% PV value) is the maximum height of the microwaviness and Rmax is the maximum height measured by an atomic force microscope.例文帳に追加

情報記録媒体用基板は、微小うねりの周期が2μm〜4mmであって、この微小うねりの最大高さをwa(95%PV値)とし、原子間力顕微鏡によって測定した最大高さをRmaxとしたとき、該基板主表面のwaが5nm以下、Rmaxが12nm以下であることを特徴とする。 - 特許庁

例文

After applying a cementation hardening treatment to a workpiece W comprising steel, at least either a grinding work or polishing work is applied to form a coarse waviness 18 of the maximum height of 1.0 μm or less.例文帳に追加

鋼からなるワークWに浸炭焼き入れ処理を施した後、研削加工または研磨加工の少なくともいずれか一方を行って、最大高さが1.0μm以下である粗いうねり18を形成する。 - 特許庁

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「maximum waviness」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 9



例文

The aluminum nitride substrate 1 has ≥320 mm maximum length ML, <0 mm to2 mm thickness, ≥0 μm/mm to <2 μm/mm warpage and ≥0 μm to100 μm height of local waviness.例文帳に追加

窒化アルミニウム基板1は、最大長さMLが320mm以上、厚みTが0mm超え2mm以下、反りが0μm/mm以上2μm/mm未満、局所的なうねり高さが0μm以上100μm以下である。 - 特許庁

例文

After applying a heating treatment and a cooling treatment to a workpiece W comprising spheroidal graphite cast iron, at least either a grinding work or a polishing work is applied to form a coarse waviness 18b of the maximum height of 1.0 μm or less.例文帳に追加

球状黒鉛鋳鉄からなるワークWに加熱処理および冷却処理を施した後、研削加工または研磨加工の少なくともいずれか一方を行って、最大高さが1.0μm以下である粗いうねり18を形成する。 - 特許庁

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「maximum waviness」の意味に関連した用語

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