microprocessedとは 意味・読み方・使い方

MICROPROCESSED RESIN SHEET例文帳に追加

微細加工樹脂シート - 特許庁

MICROPROCESSING METHOD FOR GLASS AND MICROPROCESSED GLASS例文帳に追加

ガラスの微細加工方法および微細加工ガラス - 特許庁

To provide a method for coarsening a resin surface by which a resin surface made of various resins or a resin coating material used in a resin-coated metal article or the like can be microprocessed to the target surface roughness.例文帳に追加

各種樹脂や金属の樹脂塗装品などの樹脂被覆材料における樹脂表面を、目的とする表面粗さに微細加工し得る樹脂表面の粗化方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device for measuring a function of a membrane transport molecule capable of analyzing quantitatively a transportation efficiency of a membrane protein by fluorescent imaging, by combining a microprocessed micro-chamber array with an artificial lipid double membrane into which the membrane protein is integrated.例文帳に追加

微細加工したマイクロチャンバーアレイと、膜タンパク質を組み込んだ人工脂質二重膜を組み合わせて、膜タンパク質の輸送効率を蛍光イメージングにより定量解析できる、膜輸送分子の機能測定方法およびその測定装置を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing method of a polishing pad 3 which is provided on a surface of a polishing table 1 and polishes the surface of a workpiece 4 slidably arranged over the polishing surface by a chemical mechanical polishing method, the polishing pad 3 whose surface is microprocessed by using a micro-molding method is manufactured.例文帳に追加

研磨用定盤１の表面に設けられるとともに、その研磨面に対して摺接可能に配置した被研磨物４の表面を化学機械研磨法により研磨する研磨パッド３の製造方法において、マイクロモールディング法を用いて表面に微細加工を施した研磨パッド３を製造する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin which can be microprocessed since the resin has photosensitivity, which is developable with a diluted alkali aqueous solution, curable at a low temperature (200°C or lower), high in flexibility, and excellent in electric insulation reliability, solder heat resistance and organic solvent resistance, and which has small warpage of a substrate after being cured, and has excellent adhesion with a sealing agent.例文帳に追加

本発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a removing agent for photoresist with which a photoresist film applied on a substrate, a photoresist layer remaining after etching the photoresist film applied on a substrate, or a photoresist residue remaining after etching and ashing the photoresist layer can be easily removed at a low temperature in a short time while various kinds of materials can be microprocessed without corroding at all, and a circuit wiring pattern with high accuracy can be manufactured.例文帳に追加

基板上に塗布されたフォトレジスト膜、または基板上に塗布されたフォトレジスト膜をエッチング後に残存するフォトレジスト層、あるいはフォトレジスト層をエッチング後にアッシングを行い残存するフォトレジスト残査物等を低温でかつ短時間で容易に剥離でき、その際種々の材料を全く腐食せずに微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるフォトレジスト剥離剤を提供すること。 - 特許庁