optical eclipseとは 意味・読み方・使い方

The accuracy of the optical system is measured periodically, utilizing the accuracy reference marks 23a and 23b on the Z stage 22Z to adjust an abberation, lighting telecentric, eclipse and the like.例文帳に追加

Ｚステージ２２Ｚ上の精度基準マーク２３ａ，２３ｂを利用して定期的に光学系の精度を測定し、収差や照明テレセン、ケラレなどを調整する。 - 特許庁

To obtain a scanning optical system, which can print with high quality at a high speed while reducing an eclipse and image plane curvature due to influence of eccentricity of a stop and a collimation optical means of the scanning optical system, and an image forming apparatus using the same.例文帳に追加

走査光学系における絞りやコリメート光学手段の偏心の影響によるケラレや像面湾曲を軽減し、高速で高品位の印字が可能な走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を得ること。 - 特許庁

The imaging device has an imaging element, an imaging optical system, and an auxiliary light means, the imaging device performing processing for trimming or image composition etc., when an image with an eclipse of auxiliary light by a portion of the imaging optical system is obtained.例文帳に追加

撮像素子と、撮像光学系と、補助光手段と、を有する撮像装置において、撮像光学系の一部による、補助光のケラレが発生した画像が得られたとき、トリミング或いは画像合成等の処理をおこなう撮像装置とする。 - 特許庁

To provide: a focusing device capable of calibrating a conversion factor for converting an image shift amount into a defocus amount without making an operator conscious of calibrating operation particularly even if eclipse by an optical system occurs; an imaging apparatus; an interchangeable lens; a conversion factor calibration method; and a conversion factor calibration program.例文帳に追加

光学系によるケラレが生じる場合であっても、操作者が較正動作を特に意識することなく、像ずれ量をデフォーカス量に換算する換算係数の較正を行うことができる焦点調節装置、撮像装置、交換レンズ、換算係数較正方法、換算係数較正プログラムを提供する。 - 特許庁

To simultaneously compensate a telecentric error peculiar to an abaxial projection system while the size of this projection system is formed in the smallest size when the projection system is used for avoiding 'eclipse' due to a reflective optical element, which is used for avoiding a chromatic aberration due to using short-wavelength radioactive rays to a microlithography projection device which is used for the manufacture of an IC.例文帳に追加

ＩＣの製造に使うマイクロリソグラフィ投影装置に短波長の放射線を使うことによる色収差を避けるために反射性光学素子を使うが、この素子による“けられ”を避けるために軸外投影システムを使うとき、それに固有のテレセントリックエラーを、この投影システムの大きさを最小にしながら、同時に補償すること。 - 特許庁