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optical model parameterとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 光学模型パラメータ
「optical model parameter」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
MODEL AND PARAMETER SELECTION FOR OPTICAL MEASUREMENT例文帳に追加
光学的測定のためのモデルとパラメータの選択 - 特許庁
DECISION OF PROFILE PARAMETER CONCERNING STRUCTURE USING APPROXIMATE FINENESS DIFFRACTION MODEL IN OPTICAL DIFFRACTION例文帳に追加
光回折における近似精緻回折モデルを用いた構造に係るプロファイルパラメータの決定 - 特許庁
A spectrum model generation part 702 generates a prediction model which is a spectrum model corresponding to the imaging data by using a spectrum model and optical characteristic information that corresponds to the imaging parameter and a subject distance.例文帳に追加
スペクトルモデル生成部702は、撮像パラメータおよび被写体距離に対応する光学特性情報、並びに、スペクトルモデルを用いて、撮像データに対応するスペクトルモデルである予測モデルを生成する。 - 特許庁
The initial value of the mechanical characteristic parameter is substituted into the mechanical system analysis model to calculate the deformation state of the optical component (S2).例文帳に追加
機械系解析モデルに前記機械特性パラメータの初期値を代入して光学部品の変形状態を算出する(S2)。 - 特許庁
A diffraction signal generated by simulation is created using the optical measurement model, a value of at least one process parameter, and a value of the dispersion.例文帳に追加
シミュレーションによる回折信号は、光学測定モデル、少なくとも1つのプロセスパラメータの値、及び分散の値を用いて生成される。 - 特許庁
The mechanical system analysis model and optical system analysis mode of target optical equipment and the initial value of a mechanical characteristic parameter to be used for the mechanical system analysis are prepared (S1).例文帳に追加
対象となる光学機器の機械系解析モデル、光学系解析モデル、及び機械系解析に使用する機械特性パラメータの初期値を作成する(S1)。 - 特許庁
An image processing unit 10 generates satellite image data of a plurality of frequency bands based on optical multi-sensor data, orbit-attitude data of an artificial satellite, and a geometric model parameter.例文帳に追加
画像処理部10は、光学マルチセンサデータ、人工衛星の軌道・姿勢データ、幾何モデルパラメータに基づき、複数帯域の衛星画像データを作成する。 - 特許庁
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「optical model parameter」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
To provide a decision of profile parameter concerning a structure using an approximate fineness diffraction model in optical diffraction, on an optical measurement of the structure formed on a semiconductor wafer.例文帳に追加
本発明は全体として、半導体ウエハ上に形成された構造の光計測に関し、より詳細には、光回折における近似精緻回折モデルを用いた構造に係るプロファイルパラメータの決定に関する。 - 特許庁
To provide a device recursively and automatically performing a series of processes on satellite images from a system correction process of optical multi-sensor data to geometric model parameter adjustment.例文帳に追加
衛星画像に関する光学マルチセンサデータのシステム補正処理から幾何モデルパラメータ調整までの一連の処理を再帰的に自動で行う装置を提供する。 - 特許庁
The image processing unit 10 newly generates the satellite image data of a plurality of frequency bands from the optical multi-sensor data, the orbit-attitude satellite data, and newly computed geometric model parameter.例文帳に追加
画像処理部10は、前記光学マルチセンサデータ、前記軌道・姿勢衛星データ、新たに算出された幾何モデルパラメータとから新たに複数帯域の衛星画像データを作成する。 - 特許庁
An optical model based on a few characteristics of the structure can determine theoretical data Dt, representing spectral intensity of an optical element of different wavelengths fully reflected from the structure, and at least one desirable parameter of the structure is computable.例文帳に追加
構造体の特徴のいくつかに基づいた光学モデルは、構造体から正反射された異なった波長の光要素の分光強度を表す理論データDtを決定でき、構造体の少なくとも一つの所望のパラメータを計算可能である。 - 特許庁
A semiconductor device manufacturing method comprises the steps of determining the isolation structure stress effect of a first semiconductor device, determining the optical proximity effect of a second semiconductor device, selecting a modeling design parameter such that the isolation structure stress effect is compensated with the optical proximity effect on a manufacture model, and constituting a third semiconductor device using the selected design parameter.例文帳に追加
本発明は第1の半導体デバイスの分離構造応力効果を決定する工程、第2の半導体デバイスの光学的近接効果を決定する工程、製造モデル上で分離構造応力効果が光学的近接効果で相殺されるようにモデリング設計パラメータを選択する工程、および選択された設計パラメータを用いて第3の半導体デバイスを構成する工程とを含む半導体デバイスを製造する方法を提供する。 - 特許庁
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