oxygen maximum layerとは 意味・読み方・使い方

The maximum oxygen concentration around a boundary between a semiconductor layer and a 1st layer of a reflectance control layer is selected to be 15 atm% or below.例文帳に追加

半導体層と反射率制御層の第一層との界面付近の最大酸素濃度を１５atm％以下にする。 - 特許庁

When an oxygen amount distribution has the maximum value in the thickness direction of a magnetic layer 2, oxygen is incorporated into the magnetic layer in such a ratio that the maximum value of the oxygen amount on the surface of the magnetic layer 2 is 1 to 1.5 times as much as the least oxygen amount in the intermediate part of the magnetic layer 2.例文帳に追加

磁性層２の厚み方向に関して酸素量分布に極大値を有する場合、磁性層２表面の極大値が、磁性層２中間部の酸素量が最も少ない部分と比較して１倍以上１．５倍以下の比率で酸素量を含有させる。 - 特許庁

Further, oxygen atom and elements lighter than oxygen are contained at least a location where the impurity concentration of the N^- drift layer 1 is maximum.例文帳に追加

さらに、少なくともＮ^-ドリフト層１の不純物濃度が極大となる箇所には、酸素原子と酸素よりも軽い元素が含まれている。 - 特許庁

The maximum peak of oxygen concentration in the depth direction of the surface layer part is located in a region at the depth of 1 μm from the surface.例文帳に追加

上記表層部の深さ方向における酸素濃度の極大ピークが、表面から深さ１μｍの領域にある。 - 特許庁

The maximum diffusion coefficient direction maximizes the oxygen diffusion coefficient in both directions of the gas diffusion layer, and is almost identical to the direction of gas flow in the layer.例文帳に追加

ガス拡散層の面方向における酸素拡散係数が最大となる最大拡散係数方向が、当該層を流れるガス流の方向とほぼ一致している。 - 特許庁

Then, the maximum oxygen concentration at a position of the grown silicon nitride layer 10 with at least 10 nm from an interface with the substrate becomes 5×10^20 atom/cm^3.例文帳に追加

成長された窒化シリコン層１０の基板４との界面から少なくとも厚さ１０ｎｍの部分の最大酸素濃度は５×１０^^20原子／ｃｍ^3 以下となる。 - 特許庁

Consequently, the maximum oxygen concentration in the portion of the grown silicon layer 10 of at least 10 nm in thickness from the interface with the substrate 4 becomes ≤5×1018 atoms/cm3.例文帳に追加

成長された多結晶シリコン層１０の基板４との界面から少なくとも厚さ１０ｎｍの部分の最大酸素濃度は５×１０^18原子／ｃｍ^3 以下となる。 - 特許庁