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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英・英日専門用語 > oxygen minimum layerの意味・解説 

oxygen minimum layerとは 意味・読み方・使い方

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日英・英日専門用語辞書での「oxygen minimum layer」の意味

oxygen minimum layer


「oxygen minimum layer」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 5



例文

This garlic-containing food with the suppressed garlic odor is obtained by hermetically sealing the food in a filmlike or a sheetlike oxygen absorbing laminated packaging material in which at least a part comprises an oxygen barrier layer, an oxygen absorbing layer and a sealant layer from the outside as the minimum constituent elements and then carrying out heat treatment.例文帳に追加

少なくとも一部が、外側から酸素バリア層、酸素吸収層、シーラント層を最少の構成要素とするフィルム状乃至シート状酸素吸収性積層包装材料に密封した後加熱処理を行うことによりにんにく臭の抑制されたにんにく含有食品を得る。 - 特許庁

The fish and shellfish or the processed food containing the fish and shellfish is packaged in a film or sheet-like oxygen-absorbing laminated package material comprising at least an oxygen barrier layer, an oxygen absorbing layer and a sealant layer which are laminated in the order from the outside as minimum components to tightly seal the package followed by heating the resultant fish and shellfish or processed food.例文帳に追加

少なくとも外側から酸素バリア層、酸素吸収層、シーラント層を最小の構成要素とするフィルム状乃至シート状酸素吸収性積層包装材料に魚介類又はそれらの含有加工食品を密封、収納した後、加熱処理を行う。 - 特許庁

A seasoning or a processed food containing the seasoning is sealed in an oxygen-absorbing laminated packaging film or sheet composed of an oxygen barrier layer, an oxygen absorbing layer and a sealant layer arranged in this order from the outside as the minimum essential constitution elements and the sealed seasoning, or the like, is heat-treated.例文帳に追加

少なくとも外側から酸素バリア層、酸素吸収層、シーラント層を最小の構成要素とするフィルム状乃至シート状酸素吸収性積層包装材料に調味料類又はそれらの含有加工食品を密封、収納した後、加熱処理を行う。 - 特許庁

The semiconductor device is characterized by comprising a silicon carbide layer, a gate insulating film formed on the silicon carbide layer with silicon, oxygen, and nitrogen as principal components and the minimum concentration of nitrogen of ≥1×10^20 atoms/cm^3, and a gate electrode formed on the gate insulating film.例文帳に追加

炭化珪素層と、炭化珪素層上に形成され、珪素、酸素、窒素を主成分とし、窒素の最低濃度が1×10^20atoms/cm^3以上のゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成されるゲート電極を有することを特徴とする半導体装置。 - 特許庁

例文

The diffusive resistance layer 12 is set to a minimum thickness necessary for completing the reaction of the combustible gas with oxygen before the gas to be measured reaches the surface of the electrode 13a, for example, about 1000 μm, so that the fluctuation of oxygen concentration on the surface of the electrode 13a to stabilize the output.例文帳に追加

拡散抵抗層12は、被測定ガスが電極13aの表面に到達する以前に、可燃性ガスと酸素の反応を完了させるに必要な最低厚さ以上、例えば、1000μm程度の厚さとしてあり、電極13a表面上の酸素濃度の変動を抑制して出力を安定化させる。 - 特許庁

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