pattern exposure systemとは 意味・読み方・使い方

PATTERN DEFINITION DEVICE FOR MASKLESS PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

マスクレス粒子ビーム露光装置用パターン規定デバイス - 特許庁

The exposure of the pixel pattern part with 3 μm resolution and the exposure of the control pattern part with 1 μm resolution are continuously carried out using an exposure system.例文帳に追加

露光装置でいずれかの順序で連続して３μｍの解像度で画素パターン部を露光する。 - 特許庁

PATTERN FORMATION AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

パターン形成方法及び荷電粒子ビーム露光装置 - 特許庁

PATTERN DATA GENERATING DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, PATTERN DATA GENERATION METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

パターンデータ生成装置、露光システム、パターンデータ生成方法、およびプログラム - 特許庁

DATA PROCESSING METHOD FOR PATTERN ONE-SHOT ELECTRON- BEAM EXPOSURE AND PATTERN ONE-SHOT ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

図形一括電子線露光用データ処理方法および図形一括型電子ビーム露光装置 - 特許庁

The pattern exposure system decides the luminous exposure for pattern exposure in accordance with the received thickness of the resist film (step S202).例文帳に追加

パターン露光装置は、受信した膜厚に応じてパターン露光処理における露光量を決定する（ステップＳ２０２）。 - 特許庁

SUBSTRATE CARRYING MEANS AND MECHANISM, AND PATTERN EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

基板の搬送手段および搬送機構ならびに露光装置 - 特許庁

This substrate treating system comprises a spinner which applies a resist to a substrate, a pattern exposure system which performs pattern exposure, and a host computer which generalizes and controls the spinner and exposure system.例文帳に追加

基板処理システムは、レジスト塗布処理を行うスピンナと、パターン露光処理を行うパターン露光装置と、これらを統括制御するホストコンピュータとを備えている。 - 特許庁