「pattern exposure system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

GENERATING METHOD OF EXPOSURE PATTERN DATA AND CHARGED-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

露光パターンデータの生成方法と荷電ビーム露光装置 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD AND ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

パターン形成方法及び電子線露光装置 - 特許庁

PATTERN DEFINITION DEVICE FOR MASKLESS PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

マスクレス粒子ビーム露光装置用パターン規定デバイス - 特許庁

The exposure of the pixel pattern part with 3 μm resolution and the exposure of the control pattern part with 1 μm resolution are continuously carried out using an exposure system.例文帳に追加

露光装置でいずれかの順序で連続して３μｍの解像度で画素パターン部を露光する。 - 特許庁

PATTERN FORMATION AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

パターン形成方法及び荷電粒子ビーム露光装置 - 特許庁

PATTERN DATA GENERATING DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, PATTERN DATA GENERATION METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

パターンデータ生成装置、露光システム、パターンデータ生成方法、およびプログラム - 特許庁

DATA PROCESSING METHOD FOR PATTERN ONE-SHOT ELECTRON- BEAM EXPOSURE AND PATTERN ONE-SHOT ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

図形一括電子線露光用データ処理方法および図形一括型電子ビーム露光装置 - 特許庁

The pattern exposure system decides the luminous exposure for pattern exposure in accordance with the received thickness of the resist film (step S202).例文帳に追加

パターン露光装置は、受信した膜厚に応じてパターン露光処理における露光量を決定する（ステップＳ２０２）。 - 特許庁

SUBSTRATE CARRYING MEANS AND MECHANISM, AND PATTERN EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

基板の搬送手段および搬送機構ならびに露光装置 - 特許庁

This substrate treating system comprises a spinner which applies a resist to a substrate, a pattern exposure system which performs pattern exposure, and a host computer which generalizes and controls the spinner and exposure system.例文帳に追加

基板処理システムは、レジスト塗布処理を行うスピンナと、パターン露光処理を行うパターン露光装置と、これらを統括制御するホストコンピュータとを備えている。 - 特許庁

To provide an exposure system to suppress variance in pattern forms during exposure.例文帳に追加

露光の際にパターン形状のばらつきを押さえ込むような露光方式を提供する。 - 特許庁

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD OF FORMING CIRCUIT PATTERN例文帳に追加

投影光学系、露光装置、及び回路パターンの形成方法 - 特許庁

ALIGNMENT-MARK POSITION MEASURING METHOD, PATTERN EXPOSURE SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT, AND PATTERN EXPOSURE SYSTEM MAINTAINING METHOD例文帳に追加

アライメントマーク位置計測方法、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁

To provide a pattern exposure system forming a pattern even in a rotation center area in a constant angular velocity rotation type pattern exposure system.例文帳に追加

定角速度回転式パターン描画装置において、回転中心領域にもパターンを描画することを可能とするパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

PATTERN EXPOSURE SYSTEM, MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN FORMING BODY AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE PROVIDED WITH THE PATTERN FORMING BODY例文帳に追加

パターン描画装置、パターン描画体の製造方法、該パターン描画体を備えた装置の製造方法。 - 特許庁

PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MEASURING METHOD, PROCESS MANAGING METHOD, AND EXPOSURE CONDITION RESOLUTION METHOD例文帳に追加

パターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法 - 特許庁

PATTERN DATA PROCESSING METHOD AND SYSTEM, AND EXPOSURE METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

パターンデータ処理方法及びシステム、並びに露光方法及び装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PATTERN EXPOSURE, METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING CIRCUIT, PATTERN EXPOSURE MASK, MANUFACTURE OF THE MASK, AND INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

パターン露光方法及び装置、回路製造方法及びシステム、パターン露光マスク、マスク製造方法、集積回路装置 - 特許庁

EXPOSURE APPARATUS, MOVABLE BODY DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMING APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光装置、移動体駆動システム、パターン形成装置、及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

PHOTORESIST EXPOSURE METHOD, RESIST PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURE OF TAPE CARRIER, TAPE CARRIER AND EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

フォトレジスト露光方法、レジストパターン形成方法、テープキャリアの製造方法、テープキャリア、および露光装置 - 特許庁

EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁

In an exposure mask having a mask pattern which is to be transferred onto a substrate by a projection optical system of an exposure apparatus, the mask pattern contains a pattern group comprising a main pattern and an assist pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁

EXPOSURE SYSTEM AND METHOD OF DISTRIBUTING ERROR FOR PROCESSING ON ITS PATTERN ON OCCURRENCE OF ERROR例文帳に追加

露光装置及びエラー発生時のパターンで処理を振り分ける方法 - 特許庁

To provide a light exposure parameter deciding device capable of improving size uniformity of a pattern, a light exposure system, a check system, and a light exposure parameter deciding method.例文帳に追加

パターンの寸法均一性を向上できる露光パラメータ決定装置、露光システム、検査システム、及び露光パラメータ決定方法を提供する。 - 特許庁

A tetragonal lattice pattern 9 is formed in a photoresist by carrying out first exposure through an L/S pattern and a second exposure through an L/S pattern inclined from the above L/S pattern by 90° with an optical exposure system.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

This exposure apparatus 14 receives Gerber data 36 of a wiring pattern to be transferred by exposure onto an exposure object from a CAD/CAM system 12.例文帳に追加

露光装置１４は、被露光物に露光すべき配線パターンのガーバーデータ３６をＣＡＤ／ＣＡＭシステム１２から入力する。 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR EXPOSING AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

回路パターンの設計方法、露光方法及び荷電粒子ビーム露光システム - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, PATTERN FORMING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, MASK MANUFACTURING SYSTEM, MASK, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

パターン作成方法及びパターン作成システム、マスク製造方法及びマスク製造システム、マスク、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

An exposure mask comprises a mask pattern which is transferred to a substrate through a projection optical system of the exposure system and includes a Fresnel zone plate pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンはフレネルゾーンプレートパターンを含む。 - 特許庁

To provide an exposure system for forming a circuit pattern of a first direction and a line/space circuit pattern of a second direction through only one exposure.例文帳に追加

第１の方向の回路パターン及び第２の方向のライン／スペース回路パターンを一回の露光に形成するための露光システムを提供する。 - 特許庁

The project exposure device 10 has an exposure optical system that projects a projected pattern formed on a photomask 14 on a substrate 32 on exposure stage 31 with exposure light.例文帳に追加

投影露光装置１０は、露光光を用いてフォトマスク１４に形成された透光パターンを露光ステージ３１上の基板３２に投影する露光光学系を有する。 - 特許庁

To provide an immersion multiple exposure method capable of reducing pattern defects in executing multiple exposure; and an immersion exposure system.例文帳に追加

多重露光を行う際にパターン欠陥を低減できる液浸多重露光方法及び液浸露光システムを提供することを目的としている。 - 特許庁

The exposure apparatus transfers a pattern formed on an original plate 3 onto a substrate 4 by exposure through a projection optical system 5.例文帳に追加

投影光学系５を介して原版３に形成されたパターンを基板４に露光転写する露光装置である。 - 特許庁

MOVING BODY SYSTEM AND MOVING BODY DRIVING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE METHOD FOR MANUFACTURING例文帳に追加

移動体システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a pattern manufacturing system for suppressing irregularity of line width of a pattern line on a both-face substrate, and to provide an exposure device and an exposure method.例文帳に追加

両面基板におけるパターン線の線幅のばらつきを抑えることができるパターン製造システム、露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

MOBILE OBJECT DRIVING METHOD AND MOBILE OBJECT DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND PATTERN FORMATION DEVICE, EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

The exposure apparatus aims to expose a photosensitive substrate through a mask pattern by means of a projection optical system.例文帳に追加

露光装置は、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に露光する。 - 特許庁

METHOD OF ESTIMATING LINE WIDTH AND OUT-OF-FOCUS AMOUNT OF PATTERN FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子線露光装置におけるパターンの線幅及びボケ量の推定方法 - 特許庁

In the exposure mask having a mask pattern to be transferred onto a substrate by means of the projection optical system of the aligner, the mask pattern includes a pattern group consisting of a main pattern and an assist pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンは、メインパターンとアシストパターンとから構成されるパターン群を含む。 - 特許庁

The exposure system is equipped with a lighting system (1 to 9) illuminating a mask (M), and a projection optical system (PL) which projects the image of a pattern provided on the mask (M) onto a photosensitive substrate (W) for exposure.例文帳に追加

マスク（Ｍ）を照明する照明系（１〜９）と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に投影露光する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

To make errors in the exposure of a substrate small, when the pattern of a mask is transferred to the substrate by a scanning exposure system.例文帳に追加

走査露光方式でマスクのパターンを基板上に転写する場合に、その基板に対する露光量の誤差を小さくする。 - 特許庁

A mask pattern to be transferred onto a substrate through the projection optical system of a projection exposure apparatus is provided on an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク上には、投影露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられている。 - 特許庁

DOUBLE PATTERNING OPTIMIZATION METHOD AND SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

ダブルパターニング最適化方法及びシステム、パターン形成方法及びシステム、露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system capable of shortening a time of waiting deflection control only in exposure of a specific pattern without remarkably revamping a conventional electron beam exposure system.例文帳に追加

従来の電子線露光装置に大幅な改造を加えることなく、特定のパターンの露光時にのみ偏向制御待ち時間を短くすることが可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To accurately expose a second pattern in alignment by compensating the error of a first exposure and the distortion of a printed board when the first exposure is a D/D system and a second exposure is a GA system.例文帳に追加

第１露光がＤ／Ｄ方式で、第２露光がＧＡ方式の場合に、第１露光の誤差とプリント基板の歪みを補償して第２パターンを精度良くアライメントにて露光させる。 - 特許庁