L/Sとは 意味・読み方・使い方

The most suited value of L/S is 2.5 μm/4 μm.例文帳に追加

Ｌ／Ｓの最適値は、２．５μｍ／４μｍとなる。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING PITCH OF L/S PATTERN例文帳に追加

Ｌ／Ｓパターンのピッチを測定する方法 - 特許庁

(I) R^1-{L^1-(Ar^1)_l}_s-C≡C-(Ar^2)_m-C≡C-(Ar^3)_n-C≡C-{(Ar^4)_p-L^2}_t-R^2.例文帳に追加

（Ｉ）Ｒ^1 −｛Ｌ^1 −（Ａｒ^1 ）_l ｝_s −Ｃ≡Ｃ−（Ａｒ^2 ）_m −Ｃ≡Ｃ−（Ａｒ^3 ）_n −Ｃ≡Ｃ−｛（Ａｒ^4 ）_p −Ｌ^2 ｝_t −Ｒ^2 - 特許庁

(l) S-ethyl hexahydro-1H-azepine-1-carbothioate; molinate発音を聞く 例文帳に追加

五十　Ｓ―エチル＝ヘキサヒドロ―一Ｈ―アゼピン―一―カルボチオアート（別名モリネート） - 日本法令外国語訳データベースシステム

The subject distance L becomes L=Sa/x from L:S=a:x.例文帳に追加

このとき、被写体距離Ｌは、Ｌ：Ｓ＝ａ：ｘより、Ｌ＝Ｓａ／ｘとなる。 - 特許庁

The L/S pattern includes an L/S pattern of a period P_1 satisfying λ/NA<P_1<2λ<NA and an L/S pattern of a period P_2 satisfying 1.2P_1<P_2<1.6P_1.例文帳に追加

Ｌ／Ｓパターンには、λ／ＮＡ＜Ｐ_１＜２λ／ＮＡを満たす周期Ｐ_１のＬ／Ｓパターンと、１．２Ｐ_１＜Ｐ_２＜１．６Ｐ_１を満たす周期Ｐ_２のＬ／Ｓパターンとが含まれる。 - 特許庁

A tetragonal lattice pattern 9 is formed in a photoresist by carrying out first exposure through an L/S pattern and a second exposure through an L/S pattern inclined from the above L/S pattern by 90° with an optical exposure system.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

To enhance the resolution and contrast of the L/S pattern of a photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンのＬ／Ｓパターンの解像度及び対照比を向上させる。 - 特許庁