phase-shift lithographyとは 意味・読み方・使い方

LITHOGRAPHY METHOD USING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクを用いたリソグラフ法 - 特許庁

GENERATING MASK PATTERN FOR ALTERNATING PHASE-SHIFT MASK LITHOGRAPHY例文帳に追加

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンの生成 - 特許庁

SYSTEM, EQUIPMENT, AND METHOD FOR MASKLESS LITHOGRAPHY EMULATING BINARY, ATTENUATION PHASE SHIFT, AND ALTERNATING PHASE SHIFT MASKS例文帳に追加

バイナリ、減衰フェーズシフトおよび交番フェーズシフトマスクをエミュレートするマスクレスリソグラフィ用のシステムおよび装置および方法 - 特許庁

To provide an advanced phase shift lithography and attenuated phase shift mask for narrow track width D write pole definition.例文帳に追加

改良された位相シフトリソグラフィと、狭いトラック幅Ｄの書き込み極を画定するためのハーフトーン位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for generating a mask pattern for alternating phase-shift mask lithography.例文帳に追加

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンを生成する方法および装置を提供すること。 - 特許庁

The upper and lower side pairs of segments can be formed at a first pitch, using phase shift lithography.例文帳に追加

上側及び下側セグメント対は位相シフト・リソグラフィを用いて第１のピッチで形成することが出来る。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask having proper chemical resistance and light resistance and ensuring accurate pattern drawing without a charge-up phenomenon on patterning a resist film by electron beam lithography.例文帳に追加

耐薬品性、耐光性が良好で、レジスト膜に対して電子線描画してパターニングする際にも、チャージアップせずに正確なパターン描画ができるハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁