planar magnetron sputteringとは 意味・読み方・使い方

PLANAR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

プレーナーマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁

PLANAR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

平板マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁

To provide a planar magnetron sputtering system capable of improving efficiency of target utilization and preventing deterioration in film quality.例文帳に追加

ターゲットの利用効率を向上させると同時に膜質の劣化を防止できるプレーナーマグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering method capable of forming a thin film of uniform thickness on the surface of a substrate in a rotary type sputtering device having a rectangular planar target provided with a magnetic circuit for magnetron discharge and to provide the device.例文帳に追加

マグネトロン放電用磁気回路が設けられた矩形平板ターゲットを有するロータリ式スパッタリング装置において、基板の表面に均一な膜厚の薄膜が形成できるスパッタリング方法とその装置を提供する。 - 特許庁

In the planar ferromagnetic sputter target to be used as a cathode in the magnetron sputtering of a magnetic thin film, the ferromagnetic material has a localized reasion different in permeability.例文帳に追加

磁性薄膜のマグネトロンスパッターリングにおけるカソードして使用するための平面状強磁性スパッターターゲットであって、その強磁性材料が異なる透磁率の局在化した領域を有するものを提供する。 - 特許庁

To provide a non-planar sputtering target for magnetron cathode sputtering of magnetic thin film, capable of eliminating waste of expensive ferromagnetic material, reducing the frequency of replacement of target, and causing no deposition of foreign particles, by reducing the magnetic permeability of at least part of the ferromagnetic material to a value lower than the intrinsic magnetic permeability of the material.例文帳に追加

磁性薄膜のマグネトロン陰極スパッタリングに使用するための非平面スパッタターゲットで、高価な強磁性材料を浪費せず且つターゲット交換頻度を低下し、異質粒子を被着しないターゲットを、この強磁性材料の少なくとも一部の透磁率をこの材料の固有透磁率より低くすることによって提供すること。 - 特許庁